噴氦法氦質(zhì)譜檢漏方法
這是常用的一種方法,一般用于檢測(cè)體積相對(duì)較小的部件,將被檢器件和儀器連通,在抽好真空后,在被檢器件可能存在漏孔的地方(如密封接頭,焊縫等) 用噴槍噴氦,如圖4 所示,如果被檢器件某處有漏孔,當(dāng)氦噴到漏孔上時(shí),氦氣立即會(huì)被吸入到真空系統(tǒng),從而擴(kuò)散到質(zhì)譜室中,氦質(zhì)譜檢漏儀的輸出就會(huì)立即有響應(yīng),使用這種方法應(yīng)注意:氦氣是較輕的惰性氣體,在噴出后會(huì)自動(dòng)上升,為了準(zhǔn)確的在漏孔位置噴氦,噴氦時(shí)應(yīng)自上而下,由近至遠(yuǎn)(相對(duì)檢漏儀位置) ,這是因?yàn)樵趪娤路綍r(shí)氦氣有可能被上方漏孔吸入,就很難確定漏孔的位置;再者漏孔離質(zhì)譜室的距離檢漏儀反應(yīng)時(shí)間也不同,所以噴氦應(yīng)先從靠近檢漏儀的一側(cè)開(kāi)始由近至遠(yuǎn)來(lái)進(jìn)行。真空壓力法的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)有GB/T15823-2009《氦泄漏檢驗(yàn)》，主要應(yīng)用于結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、壓力不是特別高的密封產(chǎn)品，如電磁閥、高壓充氣管道、推進(jìn)劑貯箱、天線、應(yīng)答機(jī)、整星產(chǎn)品等。
氦質(zhì)譜儀的整體結(jié)構(gòu)
質(zhì)譜室
形象的說(shuō)，質(zhì)譜室是氦質(zhì)譜檢漏的心臟，由離子源、分析器和電氣系統(tǒng)三個(gè)部分組成，并將冷陰極磁控規(guī)也放在其內(nèi)，共用其磁場(chǎng)。為了有利于微小的粒子流放大，將級(jí)放大用高阻及靜電計(jì)管也放在質(zhì)譜室之內(nèi)。質(zhì)譜室殼由非磁性材料制成，內(nèi)部抽空，而外部設(shè)置磁鐵形成磁分析器的磁場(chǎng)。'本底”6、逐個(gè)將氦氣充入焊縫，并封堵插入口，將數(shù)值變動(dòng)記錄下來(lái)。
真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)是提供質(zhì)譜室正常工作的條件。由于鎢陰極正常工作時(shí)需要具備0.001-0.01Pa的真空度，同時(shí)保證氦離子在分析器中的運(yùn)動(dòng)有較高的傳輸率，因此建立一個(gè)高真空系統(tǒng)是必要的。系統(tǒng)中的節(jié)能閥則是為了滿足質(zhì)譜室工作壓力的調(diào)節(jié)，該閥全開(kāi)時(shí)檢漏靈敏度高，因此在條件允許情況下開(kāi)啟大些為宜。檢漏時(shí)為了校準(zhǔn)檢漏靈敏度，系統(tǒng)中設(shè)置了標(biāo)準(zhǔn)漏孔。真空法的缺點(diǎn)是只能實(shí)現(xiàn)一個(gè)大氣壓差的漏率檢測(cè)，不能準(zhǔn)確反映帶壓被檢產(chǎn)品的真實(shí)泄漏狀態(tài)。
電氣系統(tǒng)
氦質(zhì)譜儀電氣部分的是質(zhì)譜室的供電和測(cè)量，其他部分包括真空系統(tǒng)的電源與控制部分，操縱面板及輸出儀表等。主要含有小電流放大器及輸出裝置、低頻發(fā)生器、高壓整流器及發(fā)射電流穩(wěn)定裝置、高壓整流器供給冷陰極磁控規(guī)電源。
輔助真空系統(tǒng)的配置
在氦質(zhì)譜儀檢漏技術(shù)中，根據(jù)被檢件的結(jié)構(gòu)，尺寸要求和具體的檢漏條件，設(shè)置具有預(yù)抽被檢件、保證檢漏儀工作真空度、進(jìn)體分流、縮短反應(yīng)時(shí)間和清除時(shí)間、降低對(duì)靈敏度的不良影響等功能的輔助真空系統(tǒng)，在某些條件下是非常必要的。
標(biāo)準(zhǔn)漏孔
使用氦質(zhì)譜儀的時(shí)候是否氦質(zhì)譜儀能通過(guò)自檢，那就認(rèn)為這臺(tái)氦質(zhì)譜檢漏儀是正常的呢？其實(shí)不然，氦質(zhì)譜儀能通過(guò)自檢，只是說(shuō)明，氦質(zhì)譜儀本身基本沒(méi)有問(wèn)題。但是，氦質(zhì)譜儀是否準(zhǔn)確？這個(gè)不確定。
氦檢漏服務(wù)
氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)是在真空檢漏技術(shù)領(lǐng)域里應(yīng)用廣泛的一種，這種檢漏方法的優(yōu)點(diǎn)是：檢漏靈敏度高（可以檢漏到10-12Pa·m3/s數(shù)量級(jí)）、儀器響應(yīng)快、操作簡(jiǎn)便、成本較低、用途廣泛等，所以氦質(zhì)譜檢漏儀在許多領(lǐng)域里得到廣泛的應(yīng)用。
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