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惠州派瑞林納米真空鍍膜服務至上「菱威納米」播種希望的種子

   日期:2024-01-03     作者:菱威納米    瀏覽:32    評論:0    
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派瑞林真空鍍膜(CVD)技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要突破。隨著制造業(yè)高速發(fā)展,真空鍍膜技術(shù)應用越來越廣泛。從PCBA電路板、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來看,對真空鍍膜(CVD)設(shè)備、技術(shù)、材料需求都在不斷增加,包括制造大規(guī)模集成電路的防護膜;數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀錄儲存膜;充分展示和應用各種光學特性的光學膜;計算機顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜;建筑、汽車行業(yè)上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領(lǐng)域用防護膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。

材料不相容性:聚對二涂層和待粘附的基材表面需要粘合在一起。聚對二與待覆蓋表面之間的不相容性產(chǎn)生了聚對二和襯底相遇的表面能的不協(xié)調(diào); 在這些情況下,只有小的粘合發(fā)生,如果它發(fā)展,經(jīng)常導致分層。

涂層孔隙率:在聚對二涂層和表面之間的區(qū)域中產(chǎn)生蒸汽壓差,導致易受水分侵入和滲透到PCB的影響。隨之而來的溫度和壓力的波動產(chǎn)生滲透壓,其可以將涂層與基底分離。

金屬腐蝕的臨界相對濕度大約為70%。當相對濕度達到或超過這個臨界濕度時,鹽將潮解而形成導電性能良好的電解液。當相對濕度降低,鹽溶液濃度將增加直至析出結(jié)晶鹽,腐蝕速度相應降低。溫度升高,分子運動加劇,高鹽霧腐蝕速度越快。國際電工指出:溫度每升高10℃,腐蝕速度提高2~3倍,電解質(zhì)的導電率增加10~20%。對于中性鹽霧試驗,一般認為試驗溫度選在35℃較為恰當。

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