曝光時(shí)有受光部分和未受光部分，而顯影液則作用于整個(gè)感光層表面，然而為什么只有顯影中心處的鹵素銀被還原成銀呢？這是因?yàn)樵陲@影液中加有化鉀，它在溶液中電離出Br-。顯影中心是銀原子，它不可能吸附BI-，只有Ag+的地方才會(huì)吸附它。因此，除了顯影中心外，都被Br-所包圍，而形成負(fù)電屏障。”雖然如此，但是PCB曝光工藝和半導(dǎo)體工藝曝光工藝條件不一樣，PCB通常是貼合式曝光，曝光是沒有距離的，但現(xiàn)在的蓋板是3D曲面蓋板，它的曝光，通常來說MASK它跟產(chǎn)品有一定的距離，這個(gè)距離會(huì)造成一定的偏差，所以它的工藝是有難點(diǎn)的。這樣，顯影離子便從顯影中心的缺口處進(jìn)入晶體，而使鹵素銀還原出銀。

特性曲線的繪制是通過感光測(cè)定完成的感光膠片的感光測(cè)定程序?yàn)椋涸趯ｉT設(shè)計(jì)的感光儀上，對(duì)某種感光膠片進(jìn)行一系列按幾何級(jí)數(shù)增加的曝光量進(jìn)行曝光；按標(biāo)準(zhǔn)要求經(jīng)過顯影、定影等處理后，即可得到一張光楔片（或稱梯尺） ；例如與對(duì)二酚的反應(yīng)曝光后的底片，各處未見光分解的AgBr被還原的速度是不同的。將光楔片放在密度計(jì)上測(cè)定各梯級(jí)的密度，便可獲得曝光量與密度之間相對(duì)應(yīng)的組數(shù)據(jù)；然后，以密度值（D）為縱坐標(biāo)，以曝光量的對(duì)數(shù)值（1ogH）為橫坐標(biāo)，繪制成的曲線。

當(dāng)顯影液中含有亞硫酸鈉時(shí)，即可消除上述不利影響，這是由于亞硫酸鈉可迅速地與顯影劑的氧化產(chǎn)物--配反應(yīng)，生成了無色的可溶性的對(duì)二酚單磺酸鈉，而且它還具有顯影作用，是一種顯影活性較弱的顯影劑。這樣不僅避免了顯影過程中污染物質(zhì)的大量形成，而且還將其氧化產(chǎn)物轉(zhuǎn)化成有助于顯影的物質(zhì)，使顯影液顯影能力的得比較緩慢，起到了穩(wěn)定顯影能力的作用。等離子表面處理等離子處理技術(shù)是通過對(duì)蓋板進(jìn)行一定的物理化學(xué)改性，提高表面附著力，這里主要為了提升油墨的附著力，還能去除表面有機(jī)物，達(dá)到基材表面徹底潔凈。