蘇州工業園區諾泰盈電子有限公司是一家從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料及各種雙面膠材料深加工的企業。

主要產品有：導光膜/銅鋁箔/導電雙面/導電布/鈹銅彈片/吸波材/導電泡棉/PET/PP/PE/EVA/CR/PORON/RUBBER/硅膠片及各種相面膠帶材料的模切加工。

顯影液組成成分的作用與顯影液的配方

使用PH計(PH-Z00型或PH-340型)，把它的電極插入顯影液中，可以迅速而簡便地測定PH值。每種顯影物質開始使用時，要使它的PH值超過低需用界限值。顯影液組成成分的作用與顯影液的配方為了得到微粒影像總要適當地利用微粒低感光度膠片、并用微粒顯影液降低大顆粒高感光度乳劑的粒度。常用的顯影物質的PH低需用界限值，阿米土耳為4，菲尼酮為6，米吐爾為7，甘氨酸為9，二酚為10。

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顯影液參數

當溫度22℃，顯影時間為60秒時，PD型顯影液濃度對PS版性能的影響見表1（略）。從表中數據可看出，以3級干凈為準的曝光量，PD型顯影液濃度以1∶6為佳。 當顯影液濃度過大時，往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制；特別是它對圖文基礎的腐蝕性增強，容易造成網點縮小、殘損、亮調小網點丟失及減薄涂層，從而造成耐印力下降等弊病；同時空白部位的氧化膜和封孔層也會受到腐蝕和破壞，版面出現發白現象，使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大，還易有結晶析出。 當顯影液的濃度偏低時，堿性弱，顯影速度慢，易出現顯影不凈、版面起臟、暗調小白點糊死等現象。在高溫時，須使用含堿量很低或不含堿的并含有超量防灰霧物質的顯影液。

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顯影液常見問題

a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。由顯影液不足造成。

b、顯影不夠（Under Development）。顯影的側壁不垂直。由顯影時間不足造成。

c、過度顯影（Over Development）。靠近表面的光刻膠被顯影液過度溶解，形成臺階。由顯影時間太長造成。

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顯影液組成成分的作用與顯影液的配方

甘氨酸是作用極慢的，可洗出軟影調低反差的底片，能夠很好地表現陰影部位上的細部，而灰霧度很小。甘氨酸可用作制備微粒顯影用平衡顯影液。甘氨酸不易溶于水，而易溶于堿性溶液中。長期以來，一直使用休貝爾濃縮液， 這是甘氨酸顯影液的濃縮溶液，很易于貯存。為了減緩顯影液氧化過程和延長其使用時間，須往顯影液中加進保存物質或保護物質。甘氨酸常被 用來與米吐爾、二酚及菲尼酮配合使用。