8分鐘前 EMMI微光顯微鏡值得信賴 蘇州特斯特公司[蘇州特斯特31ff5f9]內(nèi)容：掃描顯微鏡是一種利用傳播媒介的無(wú)損檢測(cè)設(shè)備。在工作中采用反射或者透射等掃描方式來(lái)檢查元器件、材料、晶圓等樣品內(nèi)部的分層、空洞、裂縫等缺陷。通過(guò)發(fā)射短波傳遞到樣品內(nèi)部，在經(jīng)過(guò)兩種不同材質(zhì)之間界面時(shí)，由于不同材質(zhì)的阻抗不同，吸收和反射程度的不同，進(jìn)而的反射能量信息或者相位信息的變化來(lái)檢查樣品內(nèi)部出現(xiàn)的分層、裂縫或者空洞等缺陷。先進(jìn)的顯微成像的技術(shù)是諸多行業(yè)領(lǐng)域在各類(lèi)樣品中檢查和尋找瑕疵的重要手段。在檢查材料又要保持完整的樣品時(shí)，這項(xiàng)非破壞性檢測(cè)技術(shù)的優(yōu)勢(shì)尤為突出。

微光顯微鏡光發(fā)射顯微鏡是器件分析過(guò)程中針對(duì)漏電失效模式，的分析工具。器件在設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造過(guò)程中有絕緣缺陷，或者期間經(jīng)過(guò)外界靜穿，均會(huì)造成器件漏電失效。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下，內(nèi)部形成流動(dòng)電流，漏電位置的電子會(huì)發(fā)生遷移，形成電能向光能的轉(zhuǎn)化，即電能以光能的方式釋放，從而形成200nm~1700nm紅外線。光發(fā)射顯微鏡主要利用紅外線偵測(cè)器，通過(guò)紅外顯微鏡探測(cè)到這些釋放出來(lái)的紅外線，從而的定位到器件的漏電點(diǎn)。

EMMI微光顯微鏡

微光顯微鏡（Emission Microscope, EMMI）是常用漏電流路徑分析手段。對(duì)于故障分析而言，微光顯微鏡（Emission Microscope, EMMI）是一種相當(dāng)有用且效率極高的分析工具。主要偵測(cè)IC內(nèi)部所放出光子。在IC元件中，EHP（Electron Hole Pairs）Recombination會(huì)放出光子（Photon）。如在P-N結(jié)加偏壓，此時(shí)N阱的電子很容易擴(kuò)散到P阱，而P的空穴也容易擴(kuò)散至N，然后與P端的空穴（或N端的電子）做EHP Recombination。在故障點(diǎn)定位、尋找近紅外波段發(fā)光點(diǎn)等方面，微光顯微鏡可分析P-N接面漏電；P-N接面崩潰；飽和區(qū)晶體管的熱電子；氧化層漏電生的光子激發(fā)；Latch up、Gate Oxide Defect、Junction Leakage、Hot Carriers Effect、ESD等問(wèn)題.