8分鐘前 共聚焦顯微鏡廠家免費(fèi)咨詢 蘇州特斯特[蘇州特斯特31ff5f9]內(nèi)容：超聲波掃描顯微鏡特點(diǎn)：非破壞性、對樣品無損壞。分辨率高，可確定缺陷在樣品內(nèi)部的準(zhǔn)確位置。工作方式按接收信息模式可分為反射模式與透射模式。按掃描方式分可分為 C掃，B掃，X掃，Z掃，分焦距掃描，分波長掃描等多種方式。二次打標(biāo)假l冒識別塑封器件二次打標(biāo)可用于塑封元器件表面標(biāo)識的假l冒識別，通過對期間標(biāo)識層的多層掃描可發(fā)現(xiàn)二次打標(biāo)痕跡。

4探頭超聲波掃描顯微鏡分析系統(tǒng)，四探頭系統(tǒng)，同時(shí)使用4只換能器- 掃描速度：2000 mm/s- 與其它品牌相比掃描30%- 掃描范圍：1000mm×700mm- 小掃描范圍：200μm×200μm- 帶寬：550MHz- 放大倍數(shù)：250倍- 新型FCT換能器。蘇州特斯特電子科技有限公司，主要從事各類測試、檢測儀器設(shè)備的代理銷售和技術(shù)服務(wù)，產(chǎn)品涵蓋電子元器件，電路板，線纜線束的測試與檢測。設(shè)備主要來自于歐美日等先進(jìn)測試設(shè)備制造國家。

微光顯微鏡偵測得到亮點(diǎn)之情況：會產(chǎn)生亮點(diǎn)的缺陷 - 漏電結(jié)（Junction Leakage）; 接觸毛刺（Contact spiking）; （熱電子效應(yīng)）Hot electr;閂鎖效應(yīng)（ Latch-Up）;氧化層漏電（ Gate oxide defects / Leakage(F-N current)）;多晶硅晶須（Poly-silicon filaments）; 襯底損傷（Substrate damage）; （物理損傷）Mechanical damage等。原來就會有的亮點(diǎn) - Saturated/ Active bipolar transistors; -Saturated MOS/Dynamic CMOS; Forward biased diodes/Reverse；biased diodes(break down) 等。

其實(shí)利用在檢測芯片的過程當(dāng)中，其實(shí)這種方法是非常有效的，關(guān)于emmi分析國內(nèi)目前的技術(shù)通常已經(jīng)達(dá)到了要求，在對芯片進(jìn)行檢測過程當(dāng)中，利用微光顯微鏡它的效果通常是非常明顯的。比如說如果說亮點(diǎn)被遮掩的過程當(dāng)中采用的是利用境外紅波的發(fā)光，通過拋光的處理來進(jìn)行探測，這樣才能夠有效的去發(fā)現(xiàn)金屬歸沉寂的有效缺陷。