手持光譜儀的原理

在XRF分析法中，從光發射管里發射出來的高能初級射線光子會撞擊樣本元素。這些初級光子含有足夠的能量可以將里層即K層或L層的電子撞擊脫軌。這時，原子變成了不穩定的離子。由于電子本能會尋求穩定，外層L層或M層的電子會進入彌補內層的空間。在這些電子從外層進入內層的過程中，它們會釋放出能量，我們稱之為二次X射線光子。而整個過程則稱為螢光輻射。每種元素的二次射線都各有特征。而X射線光子螢光輻射產生的能量是由電子轉換過程中內層和外層之間的能量差決定的。例如，鐵原子Fe的Kα能量大約是6.4千電子伏。特定元素在一定時間內所發射出來的X射線的數量或者密度，能夠用來衡量這種元素的數量。典型的XRF能量分布光譜顯示了不同能量時光子密度的分布情況。

手持式光譜儀的使用方法

奧林巴斯手持式光譜儀是一款鍍層測厚分析、合金成分分析、金屬成分分析等多功能為一體的手持式熒光光譜儀。可以幫您在無損檢測的前提下測試出樣件的鍍層厚度，并且這個測試過程極為簡單輕松：

如果說“把大象裝冰箱統共分三步”，那使用奧林巴斯手持光譜儀也僅僅需要三步：

1.選擇一個任意金屬基材的鍍層樣品(鐵、銅、鎳等等都可以)。

2.正確使用我們的工廠鍍層方法，或自定義一個特定的應用與可選的單點校準。

3.開始測試。

手持式光譜儀的功能

奧林巴斯手持光譜儀可分析以任意材料為基體的24種元素鍍層，可測試3層微米級的鍍層厚度，可在幾秒之內測試得出鍍層厚度，快速、準確。

同時還可為您測試各基體單層鍍層與各基體的復合鍍層（可測試3層鍍層），其中包含但不限于鐵鍍鉻，鐵鍍鋅，鐵鍍鎳，銅鍍銀，銅鍍錫等鍍層。在無損的檢測情況下幾秒鐘內測試出樣品的鍍層厚度(微米級)，并且這個過程極為輕松。