真空手套箱用磁控濺射離子鍍技術為黃銅電鍍亮鉻的衛生潔具鍍制ZrN膜。真空手套箱設備采用基材為鋯的非平衡磁控濺射靶和中頻電源，以及脈沖偏壓電源。

(1)抽真空

5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空手套箱設備加熱溫度應在真空室器壁放氣后又回升到100～150℃。

(2)轟擊清洗

真空度：通人氣真空度保持在2～3Pa。轟擊電壓：800～1000V，脈沖占空比20%。轟擊時間：10min。

(3)手套箱

①沉積鋯底層

真空度：通入氣，真空度保持在s x l0-1Pa。靶電壓：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脈沖偏壓：450～500V，占空比20 %。手套箱時間：5～10min。

②鍍ZrN膜

真空度：通入氮氣，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶電壓：400～550V，靶電流隨靶的面積增大而加大。脈沖偏壓：150～200V，占空比80 %。手套箱時間：20～30min。

由于真空手套箱磁控濺射技術中金屬離化率低，不容易進行反應沉積，獲得化合物膜層的工藝范圍比較窄。真空手套箱設備可采用氣體離子源將反應氣體離化，擴大反應沉積的工藝范圍。也可以采用柱狀弧源產生的弧等離子體作為離化源，柱狀弧源還是輔助手套箱源。

真空蒸發鍍膜

真空蒸發鍍膜是指在真空條件下，通過蒸發源加熱蒸發某種物質使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術。被蒸發的物質被稱為蒸鍍材料。蒸發鍍膜早由 M.法拉第在 1857年提出，經過一百多年的發展，現已成為主流鍍膜技術之一。

真空蒸發鍍膜系統一般由三個部分組成：真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發物，同時需要提供蒸發熱使蒸發物達到足夠高的溫度以產生所需的蒸汽壓。

真空蒸發鍍膜技術具有簡單便利、操作方便、成膜速度快等特點，是應用廣泛的鍍膜技術，主要應用于光學元器件、LED、平板顯示和半導體分立器的鍍膜。真空鍍膜材料按照化學成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發料，氧化物蒸發料，氟化物蒸發料等。

鐳雕

也叫激光雕刻或者激光打標，是一種用光學原理進行表面處理的工藝。

利用激光器發射的高強度聚焦激光束在焦點處 . 使材料氧化因而對其進行加工.打標的效應是通過表層物質的蒸發露出深層物質,或者是通過光能導致表層物質的化學物理變化出痕跡,或者是通過光能燒掉部分物質,而“刻”出痕跡,或者是通過光能燒掉部分物質, 顯出所需刻蝕的圖形,文字。

金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車零部件、家電類、機械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

金屬真空鍍膜與您分享怎么糾正真空電鍍膜層附著力差的問題？

◆一定要保證產表面打底活化處理，并且確認鍍膜工序全部處于開啟狀態

◆根據基材本身的性質不同來確定工藝參數

◆定期更換電極板，在設備上多花點時間，可以避免很多出錯