8分鐘前 新昌pvd金屬真空鍍膜服務周到 金百辰按需定制[金百辰050f8dc]內容：PVD技術出現于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。在高速具領域的成功應用引起了制造業的高度重視，人們在開發、高可靠性涂層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響;薄膜內部應力狀態為壓應力，更適于對硬質合金精密復雜刀具的涂層;PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色制造的發展方向。當前PVD涂層技術已普遍應用于硬質合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

精密沖壓模具經PVD鍍膜涂覆后外表可擁有極低的摩擦系數，削減加工受力。模具經納米PVD鍍膜涂覆后外表硬度可進步5到10倍，可大幅削減外表磨耗，特別是用于高精密加工時可獲得十分優異的外表質量。冷沖成形及拉伸模具經納米涂層涂覆后可明顯降低摩擦力，明顯削減加工中發生的刮痕及磨耗。因此可增加壽數，大幅降低出產成本。

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pvd金屬真空鍍膜與您分享電子束蒸發

電子束蒸發是將鍍膜材料放入水冷銅坩堝中，用高能密度的電子束轟擊鍍膜材料而使其蒸發的一種方法。蒸發源由電子發射源、電子加速電源、坩堝(通常是銅坩堝)磁場線圈、冷卻水套等組成。在該裝置中，被加熱的物質放置于水冷的坩堝中，電子束只轟擊其中很少的一部分物質，其余的大部分物質在坩堝的冷卻作用下一直處于很低的溫度，可以看作被擊部分的坩堝。因此，電子束加熱蒸發的方法可以避免鍍膜材料和蒸發源材料之間的污染。

電子束蒸發源的結構形式可以分為直式(布爾斯)、環形(電偏轉)和e形(磁偏轉)3種。在一個蒸發裝置內可以安置一個或者多個坩堝，這可以同時或者分別蒸發沉積多種不同物質。電子束蒸發源有下述優點:

1、電子束轟擊蒸發源的束流密度高，能獲得遠比電阻加熱源更大的能量密度，可以蒸發高熔點材料，如w，Mo，A1203等:

2、鍍膜材料置于水冷銅坩堝中，可以避免發源 材料的蒸發，以及兩者之間的反應;

3、熱量可以直接加到鍍膜材料的表面，使得熱，熱傳導和熱輻射的損失少.電子束加熱蒸發方式的缺點是電子發出的一次電子和鍍膜材料表面發出的二次電子會使蒸發原子和殘余氣體分子電離，這有時候會影響膜層質量。