濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射)，晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間。對(duì)于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問題，但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。

電子化學(xué)氣相沉積的方案優(yōu)勢(shì)有下述幾點(diǎn)：納米涂層，厚度僅2-4納米，噴涂后，在PCB表面形成一張極薄的網(wǎng)，有效降低PCB表面能量，如荷葉般疏水，散熱性能好，不影響連接器正常導(dǎo)電，防水值達(dá)到IPx7,浸泡在一米水深可達(dá)到一小時(shí)，已經(jīng)滿足中國電子科技集團(tuán)成品的防水標(biāo)準(zhǔn)，此外其耐腐蝕，抗酸堿，耐鹽霧功效顯著；材料不燃，不含VOC有機(jī)有毒的高揮發(fā)性溶劑，無毒無鹵素（氟，氯，，碘，）環(huán)保對(duì)人體，環(huán)境無污染；電子防水納米涂層液，工藝簡(jiǎn)單，浸泡之后自然晾干或烘烤（60度10分鐘烘烤機(jī)工序）既完成整個(gè)流程，單位成本低廉；不僅具備水接觸角，無厚度且不影響散熱，不影響信號(hào)；耐鹽霧，耐酸堿腐蝕，；BOPET、BOPA薄膜基材鍍鋁前不需進(jìn)行表面處理，可直接進(jìn)行蒸鍍。延長(zhǎng)電子產(chǎn)品壽命，降低成品故障率；

電子化學(xué)氣相沉積☆可以抗酸堿腐蝕☆可以抗溶解（在普通的溶劑中不會(huì)被溶解）☆抗凍性能強(qiáng)（低至-200℃）☆具有的屏障效果（低氣體滲透性）☆可靠性強(qiáng)，具有極高的絕緣強(qiáng)度☆采用Parylene進(jìn)行涂層，可得到均勻一致，透明且極薄的膜層☆能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊、裂縫☆經(jīng)濟(jì)清潔、工序簡(jiǎn)單、速度快、批量處理能力強(qiáng) ....對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。...

納米鍍膜主要的成分是從石英砂中提純的納米級(jí)別的二氧化硅,其單晶分子大小達(dá)到8-10nm,作用原理是,手機(jī)的鏡面雖然在肉眼的觀察下是平整的,但是實(shí)際表面是有很多分子的縫隙,我們就利用這種超微觀的納米二氧化硅來填充這些分子的縫隙從而達(dá)到提高屏幕密度硬度?？梢杂行岣咂聊坏墓饣?，提升手機(jī)屏幕畫質(zhì)，色彩更逼真，觸控格更靈敏。無論是那種納米手機(jī)鍍膜，期主要成份都是二氧化硅。手機(jī)真空防水鍍膜機(jī)蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的工作原理,蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下通過電阻或電子束加熱鍍膜材料，使其原子或分子從表面蒸出，沉積到基片表面從而形成薄膜的技術(shù)，該技術(shù)具有使用范圍廣、薄膜厚度高度可控、技術(shù)成熟、成本低廉等特點(diǎn)。也就是液體玻璃。