1分鐘前 銘牌曝光顯影廠家在線咨詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：

曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，

曝光一般在曝光機內(nèi)進行，技術(shù)關(guān)鍵點：低溫平行光源,波長根據(jù)油墨特性進行設(shè)備，目前光源是一大難點問題。利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統(tǒng)印刷解決的問題，具有精度高，量產(chǎn)性好，良率高等特點，采用曝光顯影技術(shù)，遮蔽油墨可控良率可達90%以上。

曝光顯影是一種用于光刻制程的技術(shù)，主要用于制造半導(dǎo)體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個階段：曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。

曝光顯影工藝在微電子加工中具有重要作用，主要用于將芯片圖案轉(zhuǎn)移至硅片表面，從而實現(xiàn)微電子器件的制造。

在實際應(yīng)用中，曝光顯影工藝通常用于以下方面：制造微處理器：曝光顯影工藝是制造微處理器的主要工藝之一，通過在芯片表面制造出各種不同的電路和器件，實現(xiàn)芯片的功能。

曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。

曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，盡管對193i負膠的研發(fā)已經(jīng)傾注了很大的努力，但是其性能仍然與正膠有比較大的差距，所以提出負顯影（Negative Tone Develop，NTD）。用負顯影工藝可以實現(xiàn)較窄的溝槽，負顯影工藝已經(jīng)被廣泛用于20納米及以下技術(shù)節(jié)點的量產(chǎn)中

曝光顯影可以制造微小的電容、電阻、晶體管、發(fā)光二極管或太陽能電池等晶體管器件，快速將電信號轉(zhuǎn)變?yōu)槠渌问降哪芰俊Ｆ毓怙@影技術(shù)可以制造出高精度微納米級別下的芯片制造工藝，大大提高了芯片質(zhì)量及其可靠性。預(yù)噴淋（pre-wet）：為了提高后面顯影液在硅片表面的附著性能，先在硅片表面噴上一點去離子水（Deionizedwater，DIW）。