金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車(chē)零部件、家電類(lèi)、機(jī)械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

真空鍍膜工藝與您分享低真空（102～10-1Pa）

在低真空狀態(tài)下，每立方厘米內(nèi)的氣體分子數(shù)為1018～1018個(gè)。氣體分子密度與正常大氣壓有很大差別，氣體中的帶電粒子在電場(chǎng)作用下，會(huì)產(chǎn)生氣體導(dǎo)電現(xiàn)象。這時(shí)，氣體的流動(dòng)也逐漸從黏稠滯流狀態(tài)過(guò)渡到分子狀態(tài)，這時(shí)氣體分子的動(dòng)力學(xué)性質(zhì)明顯，氣體的對(duì)流現(xiàn)象完全消失。因此，如果在這種情況下加熱金屬，可基本上避免與氣體的化合作用，真空熱處理一般都在低真空區(qū)域進(jìn)行。此外，隨著容器中壓強(qiáng)的降低，液體的沸點(diǎn)也大為降低，由此而引起劇烈的蒸發(fā)，而實(shí)現(xiàn)所謂"真空冷凍脫水"。在此真空區(qū)域，由于氣體分子數(shù)減少，分子的平均自由程可以與容器尺寸相比擬，并且分子之間的碰撞次數(shù)減少，而分子與容器壁的碰撞次數(shù)卻大大增加。

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真空鍍膜工藝與您分享高真空（10-1~10-6 Pa）

在高真空狀態(tài)下，氣體分子密度更低，容器中分子數(shù)很少。因此，分子在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中相互碰撞很少，氣體分子的平均自由程已大于一般真空容器的線度，絕大多數(shù)的分子與器壁相碰撞。因而在高真空狀態(tài)蒸發(fā)的材料，其分子（或微粒）將按直線方向飛行。另外，由于容器中的真空度很高，容器空間的任何物體與殘余氣體分子的化學(xué)作用也十分微弱。在這種狀態(tài)下，氣體的熱傳導(dǎo)和內(nèi)摩擦已變得與壓強(qiáng)無(wú)關(guān)。

高反射膜

能將絕大多數(shù)入射光反射回去。當(dāng)選用介質(zhì)膜堆時(shí)，由于該光學(xué)薄膜的損耗低，隨著膜層數(shù)的不斷增加，其反射率可以不斷地增加(趨近于百分之100)。這種高反射膜在激光器的制造和激光應(yīng)用中都是的。

分光膜

可將入射光的一部分透射，另一部分反射分成兩束光，常用的是T：R=50：50的分光膜。

光譜分光膜

可將入射光中一部分光譜的透射，另一部分光譜的反射。將長(zhǎng)波反射、短波透射的叫做短波通截止濾光膜;將長(zhǎng)波透射、短波反射的叫長(zhǎng)波通截止濾光膜。利用它們可以把一束光分成不同顏色的多束光。例如把一束光分成紅、綠、藍(lán)三原色，任何一種色光都可以通過(guò)這三種顏色的合成來(lái)獲得。這種顏色分光膜在光電的彩色行業(yè)，諸如彩色攝影、彩色電視、彩色投影、彩色印刷等領(lǐng)域都是不可缺少的。

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真空鍍膜工藝與您分享PVD鍍膜工藝離子鍍(Ion Plating)

PVD鍍膜涂層工藝中的為離子鍍膜方式；此方法是利用電弧撞擊靶材，使靶材原子被激發(fā)出來(lái)，與反應(yīng)性氣體反應(yīng)，形成化合物沉積于工件表面的一種技術(shù)。爐內(nèi)運(yùn)行至高真空后，通入惰性氣體，加偏壓造成離子(Ar+)，及帶負(fù)電的電子(e-)，帶正電的離子會(huì)撞向通入偏壓為負(fù)極的基板底材，來(lái)清潔工件表面；之后再通入反應(yīng)氣體，在靶材和基板底材間產(chǎn)生電漿，進(jìn)行鍍膜作業(yè)。此一方式成膜速度快、密著性較佳，多用于切削刀具鍍膜涂層處理。

大部分企業(yè)都采用的陰極電弧法(cathode arc)進(jìn)行鍍膜作業(yè)。與其他方式相比，此種方式擁有較多的離化率、均勻的附著性，大多被應(yīng)用在金屬的硬質(zhì)鍍膜上，特別是要求耐磨耗的物件。