真空鍍膜加工即真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態入氣，氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。其特點就是保色久，耐磨度好；真空鍍膜加工可在惡劣環境中堅持25年；防止結露：大幅抑制光伏玻璃發生結露；防刮劃硬度：鍍膜后可增加1H硬度防刮劃作用；抗積水：水滴落在上面水滴視點到達>110°。

東莞拉奇納米科技有限公司,是將派瑞林(parylene)高分子材料裂解為納米分子再進行產品表面的真空鍍膜處理。使被鍍物具備以下特性:無細孔、防水、防潮、耐酸堿、抗鹽霧、高抗壓、絕緣、生物兼容性等。

的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質膜層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學薄膜的光學性質。當一束單色光平面波入射到光學薄膜上時，在它的兩個表面上發生多次反射和折射，反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律給出，反射光合折射光的振幅大小則有菲涅爾公式確定。

真空鍍膜加工是利用化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

在電子學方面真空鍍膜更占有較為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件( CCD )也都甬道各種薄膜。