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日常生活中,很多經常需要使用EDI超純水設備的行業跟我們密切相關。例如電子光電行業、化工行業、生物制藥行業、精密機械行業、電鍍涂裝行業、化妝品行業等,這些行業都有一個共同的特點,那就是對水質的純度要求較高,EDI超純水設備可以很好地解決這個問題。
我們需要知道,EDI超純水設備通常是由預處理過濾設備、反滲透設備和EDI模塊三個單位組合而成,其中預處理過濾設備和反滲透設備可以凈化原水達到飲用水標準,而EDI模塊通過電解水質達到目標純度。
EDI超純水設備工作原理:通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,實現水中離子的定向遷移,從而達到水的深度凈化除鹽,水會發生電解產生大量H+和OH-,這些H+和OH-對離子膜中間的陰、陽離子不斷地進行了再生,補充了離子交換樹脂,并不必因再生而停機。
電除鹽EDI模塊:電除鹽EDI模塊的靈活性在于,針對不同行業對水質純度的要求,可以通過不同數量的模塊組合搭配,從而達到目標純度。
電子超純水設備讓電子行業遇“芯荒” 心不慌芯片的制造過程很復雜,從設計、生產再到封裝和測試,每一步都非常重要。在制造環節中要解決的問題有耗材、晶圓、光刻膠、超純水、各種離子等。芯片制造的關鍵設備之一是電子電子超純水設備,可用于生產芯片清洗的超純水,而超純水的質量直接影響到芯片的質量。電子超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法,將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。超純水系統設備的脫鹽部件為反滲透膜組件、EDI系統和拋光混床,超純水系統設備通常由預處理部分,反滲透主機部分,后處理部分共同組成。 電子超純水設備具有抗污染能力強、節能環保、產水水質穩定、脫鹽率高、系統內無死水等優勢
半導體材料是在集成電路、消費電子、通信系統、光伏發電等領域進行應用的。半導體材料在應用中會需要一定量的超純水,可用于清洗,該超純水電阻率達到了18兆歐,不含導電介質和金屬離子,可滿足作為半導體清洗用水的需求。采用兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,處理后的水質可達到18MΩ.CM以上,符合半導體用水標準。設備采用如今大熱的膜技術,可有效去除水中的導電介質,以及水中不離解的膠體物質、氣體及有機物,設備的出水純度高,無病毒與細菌,不含任何懸浮物、無化學污染,產出的可謂是高品的超純水了
超純水,也稱為UP水,是指電阻率為18 mΩ*cm(25℃)的水。除水分子外,這種水幾乎不含雜質、細菌、病毒、氯化和其他有機物質。當然,也不含人體所需的礦物質微量元素,也就是說,水幾乎不含有除氧和氫以外的所有原子。它可用于使用蒸餾、去離子、反滲透技術或其他適當的臨界精細技術制備超純材料(半導體原材料、納米精細陶瓷材料等)的過程。