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派瑞林(PARYLENE)真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。它以真空技術為基礎,采用物理或化學方法,吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供了一種新的薄膜制備工藝。簡而言之,金屬、合金或化合物在真空中蒸發或濺射,從而可以沉積在被涂覆的物體(稱為基底、襯底或基體)上
光學鍍膜技術常用的方法是真空濺射鍍膜玻璃基片,一般用來控制基片對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損耗,提高成像質量,涂覆一層或多層透明介質膜,稱為減反射膜或減反射膜。
現代科學技術,特別是航天航空、電子及等科學技術高速發展對材料提出新的要求,尤其是航天航空工業對材料的要求更為苛刻。首先是要求材料性能穩定,同時具有重量輕、耐高溫、耐沖刷、抗輻射等綜合的優良性能。陶瓷涂層由此應運而生。
陶瓷涂層是在傳統的陶瓷材料基礎上發展起來的新型復合材料,它即保持了傳統陶瓷材料的耐高溫、抗磨損、耐腐蝕等優點,同時保持了基體材料的結構強度,由于陶瓷涂層的厚度通常都在1毫米之內,大大地減少了零件的消極重量,其抗熱沖擊性能優于整體陶瓷。
表面科學是在固體物理等許多科學基礎上發展起來的新科學,其研究對象是各種各樣的表面。真空鍍膜技術為制造各種各樣的清潔表面提供了手段。特別是20世紀70年代在真空鍍膜基礎上發展起來的分子束外延技術,用他不值可以特備可控制的超薄薄膜、原子級平整度的表面、上百層的疊加膜,而且還可以控制薄膜的成分和亞比。這些薄膜的制備均為科學的研究和發展提供了充分的條件。
真空搜膜技術在其他科學領域中的應用亦很廣泛。例如,電子顯微鏡的標本必須經過真空鍍膜處理才能觀察﹔激光器需要鍍上精密控制的光學膜層才能使用;太陽能利用也與真空鍍膜技術息息相關。