1分鐘前 石龍音響曝光顯影加工公司詢(xún)價(jià)咨詢(xún)「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：曝光時(shí)菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對(duì)于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發(fā)生聚合反應(yīng)，然后通過(guò)顯影機(jī)，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，為感光的油墨被顯影液去除，通過(guò)這樣的方式，需要蝕刻的圖案顯影在鋼片上面了。曝光：在將光線(xiàn)通過(guò)掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過(guò)程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。顯影：通過(guò)將芯片表面的光刻膠所形成的圖案暴露在顯影液中進(jìn)行刻蝕，去除光刻膠的非芯片圖案區(qū)域，使得芯片上僅保留出所需要的器件結(jié)構(gòu)。

曝光顯影工藝在微電子加工中具有重要作用，主要用于將芯片圖案轉(zhuǎn)移至硅片表面，從而實(shí)現(xiàn)微電子器件的制造。

在實(shí)際應(yīng)用中，曝光顯影工藝通常用于以下方面：制造微處理器：曝光顯影工藝是制造微處理器的主要工藝之一，通過(guò)在芯片表面制造出各種不同的電路和器件，實(shí)現(xiàn)芯片的功能。

曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過(guò)程中，會(huì)使的膠膜變軟，線(xiàn)條不清晰，色澤暗淡，脫膠。

顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進(jìn)行充分反應(yīng)，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。從而形成可見(jiàn)的圖片。而在數(shù)字?jǐn)z影中，曝光則是相機(jī)中的數(shù)字傳感器接收到光線(xiàn)所對(duì)應(yīng)的信息，并記錄下來(lái)，再通過(guò)數(shù)字信號(hào)處理，將其轉(zhuǎn)化為圖片的過(guò)程。甩干（spin dry）：為了將表面的去離子水甩干，將硅片轉(zhuǎn)到高轉(zhuǎn)速

顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進(jìn)行充分反應(yīng)，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。曝光顯影加工是半導(dǎo)體工業(yè)制程中的一種加工方法，也被稱(chēng)為光刻工藝。它是通過(guò)在芯片表面上涂覆一層光刻膠，并使用掩膜在光刻膠上曝光出所需要的芯片圖案，通過(guò)顯影來(lái)去除未曝光的部分，將芯片圖案準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)移到芯片表面的制程。