真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。維護真空鍍膜機不可少的一個環(huán)節(jié)，當(dāng)發(fā)現(xiàn)真空鍍膜機腔體漏氣的時候，能及時排查處理，顯得非常得重要。一般真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的連接位細縫中產(chǎn)生，當(dāng)抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強下降，外部與內(nèi)部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內(nèi)，造成真空度下降。

真空鍍膜機組成結(jié)構(gòu)是怎樣的？一臺完整的真空鍍膜機是由多部分系統(tǒng)組成的，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能。

真空鍍膜機的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產(chǎn)品所決定，它的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結(jié)實耐用不生銹等。真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。

抽真空系統(tǒng)是鍍膜機真空系統(tǒng)的一個重要組成部分，真空度的高低直接影響產(chǎn)品的鍍膜效果，真空度由真空測試系統(tǒng)取得數(shù)據(jù)。

成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式，比如固定鍍制時間、目測、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等。鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。

真空鍍膜機組成結(jié)構(gòu)是怎樣的？一臺完整的真空鍍膜機是由多部分系統(tǒng)組成的，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)。

其組成包括真空腔、機械泵、真空測試系統(tǒng)、油擴散泵、抽真空系統(tǒng)、冷凝泵以及成膜控制系統(tǒng)等等。

真空鍍膜機如何選型選用真空泵時，需要注意下列事項：

真空泵的工作壓強應(yīng)該滿足真空設(shè)備的極限真空及工作壓強要求。

如:真空鍍膜機要求1x10-5mmHg的真空度, 選用的真空泵的真空度至少要5x10-6mmHg.真空鍍膜機對于真空度的極限要求和工作壓力強度要求越來越大，對真空泵的抽真空能力要求就越高，通常選擇泵的真空度要高于真空設(shè)備真空度半個到一個數(shù)量級。