PVD 鍍膜工藝起源于國外，在行業發展初期，鍍膜設備和鍍膜材料的配套以國外廠商為主。國外 PVD 鍍膜材料廠商的鍍膜材料經過與下游客戶的鍍膜設備、鍍膜工藝的長期磨合，各項性能指標與客戶的匹配性已較好，具有較強的先發優勢，因此，長期以來 PVD 鍍膜材料研制和生產主要集中于美國、日本和德國少數公司，產業集中度較高。

高純濺射靶材屬于典型的技術密集型產業，研發生產設備性強。在一定程度上，半導體工業的區域集聚性造就了高純濺射靶材生產企業的高度聚集。自誕生之日起，以美國、日本為代表的高純濺射靶材生產企業便對技術執行嚴格的保密措施，導致濺射靶材行業在范圍內呈現明顯的區域集聚特征，生產企業主要集中在美國和日本。

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真空鍍膜加工與您分享五金鍍膜對身體有害嗎？

有 因為鍍膜技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質電離，在電場的作用下，使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上。如果是蒸發鍍膜 除了清機時候的粉塵記得戴口罩，還有玻璃清洗房有些揮發清洗劑，是對人體沒有害處的。

物理氣相沉積技術工藝過程簡單，對環境改善，無污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結合力強。該技術廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域，可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。

隨著高科技及新興工業發展，物理氣相沉積技術出現了不少新的先進的亮點，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術，大型矩形長弧靶和濺射靶，非平衡磁控濺射靶，孿生靶技術，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術，條狀纖維織物卷繞鍍層技術等，使用的鍍層成套設備，向計算機全自動，大型化工業規模方向發展。