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pvd金屬真空鍍膜與您分享pvd真空蒸發鍍膜

01、定義

pvd真空蒸發鍍膜是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發物質使之汽化，蒸發粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態薄膜的技術。

02、真空蒸發踱膜主要經歷

1、采用各種能源方式轉換成熱能， 加熱膜材使之蒸發或升華， 成為具有一定能星 ( 0霉 1/'"->J0 . 3 e V) 的氣態粒子（原子、分子和原子團）；

2 、離開膜材表面，具 有相當運動速度的氣態粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；

3、到達基體表面的氣態粒子凝聚形核后生長成固相薄膜；

4、組 成 薄 膜 的 原子重組排列或產生化學鍵合；

03、原理及特點

原理：

熱蒸發是在真空狀況下，將所要蒸鍛的材料利用電阻加熱達到熔化溫度，使原子蒸發，到達并附著在基板表面上的一種鍛膜技術。

特點：

設備簡單、操作容易

海膜純度高，質量好， 厚度可控

速率快、、可用掩膜 獲得清晰圖形

薄膜生長機理比較單純

缺點：

不易獲得結晶結構的薄膜

粘膜與基片附著力小

拋光

拋光是指利用機械、化學或電化學的作用，使PVD涂層產品表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法，是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質對PVD涂層產品表面進行的修飾加工。拋光處理以得到光滑表面或鏡面光澤為目的，有時也用以消除光澤。通常以拋光輪作為拋光工具。

脫氣

脫氣是將已經超聲清洗的待鍍產品在真空環境下通過加熱、保溫、冷卻的方式使待鍍產品盲孔、縫隙、焊接處，以及產品表面等部位沒有被超聲清洗干凈的雜質、油污和易揮發的材料在高溫、真空條件下揮發出來，保證產品在鍍膜時不會被雜質氣體氧化、導致涂掉膜甚至污染爐腔的一種深層次的清潔方式。

工藝流程

單色、漸變色：拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化→中和→染色→封孔→烘干

雙色：①拋光/噴砂/拉絲→除油→遮蔽→陽極氧化1→陽極氧化2 →封孔→烘干

②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化1 →鐳雕→陽極氧化2 →封孔→烘干

技術特點

1、提升強度,

2、實現除白色外任何顏色。

3、實現無鎳封孔，滿足歐、美等國家對無鎳的要求。