金百辰智能科技(浙江)有限公司從事汽車零部件、家電類、機械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。
輪轂貼電鍍膜與您分享隨著我國汽車工業的迅速崛起、先進制造技術的大量引進及數控加工技術大面積的普及,自本世紀初,PVD技術在國內掀起了第二次開發熱潮。與九十年代不同,目前國內PVD技術的發展更具多元性及創新性,歸納起來有以下幾種類型:
①陰極電弧法(Cathode Arc Deition)國內已由小圓型陰極電弧技術發展到大面積陰極電弧技術及柱型靶陰極電弧技術,主要用于TiAlN等薄膜的制備。
②熱陰極法(Hot Cathode Plating)源于Balzers的技術,主要用于TiN等薄膜的制備。
③磁控濺射法近年來,磁控濺射技術一直是國內涂層業的重點發展方向,先后出現了非平衡磁控濺射技術、磁控濺射加輔助離子源技術等,可制備各類薄膜。
④磁控濺射附加陰極電弧法目前國內已較多采用的技術,可用于多種薄膜的制備。
⑤空心陰極附加磁控濺射及陰極電弧法空心陰極在國內是一項傳統技術,其應用市場仍舊存在。為了充分發揮此技術的特點,國內的研究者將空心陰極與磁控濺射技術、陰極電弧技術結合在一起,用于多元薄膜的制備,且這種全新的嘗試已對市場產生了影響。
歸納起來,國內刀具涂層技術開發的目的仍以TiAlN薄膜為主,上述各類技術已可在切削刀具上制取多種膜層,包括TiAlN薄膜,但目前所欠缺的是應用基礎的研究及工業化生產工藝穩定性的保障。
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輪轂貼電鍍膜與您分享電阻加熱蒸發
電阻加熱蒸發電阻加熱蒸發方式是簡單也常用加熱方法,一般適用于熔點低于1500℃的鍍膜材料,通常將線狀或片狀的高熔點金屬(W、Mo、Ti、Ta、氨化硼等)做成適當形狀的蒸發源,裝上蒸鍍材料,通過電流的焦耳熱使鍍料熔化、蒸發或者升華,蒸發源的形狀主要有多股線螺旋形、U形、正弦波形、薄板形、舟形、圓錐筐形等。同時,該方法要求蒸發源材料具有熔點高:飽和蒸氣壓低:化學性能穩定,在高溫下不應與鍍膜材料發生化學反應:具有良好的耐熱性,功率密度變化小等特點,采用大電流通過蒸發源使之發熱,對膜材直接加熱蒸發,或把膜材放入石墨及某些耐高溫的金屬氧化物(如A202,BO)等材料制成的坩堝中進行間接加熱蒸發。
電阻加熱蒸發鍍膜具有局限性:難熔金屬具有低的蒸氣壓,難以制成薄膜:有此元素容易和加熱絲形成合金:不易得到成分均勻的合金膜。由于電阻加熱蒸發方式結構簡單、價格低廉、易于操作,因而是一種應用很普遍的蒸發方式。
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輪轂貼電鍍膜與您分享PVD鍍膜工藝濺射鍍膜(Sputtering)
高能量的粒子撞擊靶材時靶中的分子或原子被撞擊出來的現象,此原理是以靶為陰,以基板為陽,在10-2Torr左右的Ar氣氛中加以高電壓時陰附近的Ar氣離子化后變成Ar+,與陰相撞擊,被Ar+離子所撞擊飛出的分子或原子撞上基板而堆積形成薄膜。
濺射應用范圍廣,利用其薄膜的機能則是以耐磨耗性、耐蝕性、耐熱性抗靜電或裝飾性為目的,但是因附著力的問題少見于刀具的應用。適用于大宗連續性鍍膜,例如手機零件等。
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輪轂貼電鍍膜與您分享PVD真空離子鍍膜與傳統電鍍之間的不同
真空鍍膜厚度屬于微米級,1μm 相當于傳統電鍍一條的十分之一,因此經過鍍膜作業以后,并不會影響工件的精度;傳統電鍍的批覆方式是以一種包覆的方式在外形成一層電鍍層,并無高度密著性可言。
PVD 真空離子鍍膜與電鍍方式之膜形差異一般濕式鍍層所作之鍍膜會在表面覆蓋成一個薄膜層 ,不論底材之原先形狀為何,表面所呈現出來的薄膜層都會趨于平坦。PVD 鍍層會依底材形狀平均在上方形成一個鍍膜層,依底材高低形狀有所不同,經鍍膜后的高低形狀也是依照原先底材之態樣。