真空鍍膜就是于真空室內(nèi)，采用一定方法使材料凝聚成膜的工藝。在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。　廣義的真空鍍膜還包括在屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。

真空鍍膜加工工藝中，要求裝配到高真空環(huán)境的零件，事先都需要小心地進(jìn)行清洗處理，否則各種污染物可成為大量氣體和蒸氣的來(lái)源，會(huì)大大延長(zhǎng)真空器件的排氣時(shí)間，不易獲得高真空。

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前，工件須在鍍膜前仔細(xì)清洗。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過(guò)程。

鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。

真空鍍膜目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線(xiàn)并抑低耀光、鬼影;不同顏色的真空鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。