真空鍍膜就是于真空室內，采用一定方法使材料凝聚成膜的工藝。在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法?！V義的真空鍍膜還包括在屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。

真空鍍膜加工工藝中，要求裝配到高真空環境的零件，事先都需要小心地進行清洗處理，否則各種污染物可成為大量氣體和蒸氣的來源，會大大延長真空器件的排氣時間，不易獲得高真空。

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響鍍膜產品的質量。在進入鍍膜室之前，工件須在鍍膜前仔細清洗。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。

鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發蒸發，然后沉積到基體表面，蒸發法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發成氣相，然后沉積到基體表面。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。

真空鍍膜目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影;不同顏色的真空鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。