用于電子照相成像裝置和噴墨成像裝置的導電輥是通過將導電性泡沫彈性體包覆于導電性金屬芯材的外周而制成的。所述導電性泡沫彈性體是通過將導電性材料分散在普通彈性體中以使該彈性體具有導電性，并使用空氣或者氮氣對彈性體進行機械發(fā)泡、或者使用發(fā)泡劑進行化學發(fā)泡而形成的。此外，使用混入了導電性填充劑的電子導電性橡膠的導電輥，其電阻值與施加的電壓有關(guān)，存在電阻值不固定的問題。

導電輥，所述導電輥的電阻率幾乎不會隨著環(huán)境變化而改變。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種導電輥，該導電輥包括導電性芯材，以及包覆于所述導電性芯材的外周的泡沫彈性層。

各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求?？梢杂冒雽w材料鍺及超純金屬鋁為例說明典型的超純金屬制備及檢測的原理（見區(qū)域熔煉）。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。

各種純度鋁中的雜質(zhì)含量及剩余電阻率如表2所示。超純金屬超純的純度也可以用剩余電阻率來測定，其值約為2×10-5。貴重金屬回收指的是從一些特定材料中回收有再利用價值的金屬廢料。現(xiàn)代科學技術(shù)的發(fā)展趨勢是對金屬純度要求越來越高。因為金屬未能達到一定純度的情況下，金屬特性往往為雜質(zhì)所掩蓋。不僅是半導體材料，其他金屬也有同樣的情況，由于雜質(zhì)存在影響金屬的性能。

鎢過去用作燈泡的燈絲，由于脆性而使處理上有困難，在適當提純之后，這種缺點即可以克服（鎢絲也有摻雜及加工問題）。

各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。半導電膠輥屬于半導電元件，且電阻值受環(huán)境影響較大，對產(chǎn)品的導電性要求極其嚴格，因為打印的全過程是碳粉通過電場的壓力來實施，所以輕微的電性誤差將導致在打印過程中文字和圖片深淺不一的現(xiàn)象。20世紀90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線。

在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。