PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，涂層成分也由代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復合涂層。

電鍍：電鍍時，鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的工件做陰極，鍍層金屬的陽離子在待鍍工件表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質或尺寸。電鍍能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、光滑性、耐熱性和表面美觀。

金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車零部件、家電類、機械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

真空鍍膜pvd廠與您分享DLC涂層具備高硬度、高彈性模量、低摩擦系數、耐磨性和優良的真空泵固體力學特性，特別適合于耐磨損鍍層。因而，根據液相堆積加工工藝得到的類金鋼石鍍層廣泛運用于很多對耐磨性和強度有規定的零件中。DLC加工工藝溫度一般在200攝氏上下，乃至更低，能夠解決絕大多數汽車零件；

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真空鍍膜pvd廠與您分享PVD鍍膜工藝濺射鍍膜(Sputtering)

高能量的粒子撞擊靶材時靶中的分子或原子被撞擊出來的現象，此原理是以靶為陰，以基板為陽，在10-2Torr左右的Ar氣氛中加以高電壓時陰附近的Ar氣離子化后變成Ar+，與陰相撞擊，被Ar+離子所撞擊飛出的分子或原子撞上基板而堆積形成薄膜。

濺射應用范圍廣，利用其薄膜的機能則是以耐磨耗性、耐蝕性、耐熱性抗靜電或裝飾性為目的，但是因附著力的問題少見于刀具的應用。適用于大宗連續性鍍膜，例如手機零件等。

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真空鍍膜pvd廠與您分享PVD鍍膜工藝離子鍍(Ion Plating)

PVD鍍膜涂層工藝中的為離子鍍膜方式；此方法是利用電弧撞擊靶材，使靶材原子被激發出來，與反應性氣體反應，形成化合物沉積于工件表面的一種技術。爐內運行至高真空后，通入惰性氣體，加偏壓造成離子(Ar+)，及帶負電的電子(e-)，帶正電的離子會撞向通入偏壓為負極的基板底材，來清潔工件表面；之后再通入反應氣體，在靶材和基板底材間產生電漿，進行鍍膜作業。此一方式成膜速度快、密著性較佳，多用于切削刀具鍍膜涂層處理。

大部分企業都采用的陰極電弧法(cathode arc)進行鍍膜作業。與其他方式相比，此種方式擁有較多的離化率、均勻的附著性，大多被應用在金屬的硬質鍍膜上，特別是要求耐磨耗的物件。