真空電鍍使用的鍍層材質廣泛、容易符合環保要求,簡單一點,就是在真空狀態下將需要涂覆在產品表面的膜層材料通過等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術,真空電鍍有真空蒸發鍍,濺射鍍,離子鍍等,獲得這些沉積方法的途徑有多種:電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設、脈沖濺射、微波增強等離子體、多弧等等很多種方法,真空電鍍可以根據的需求和經濟技術條件考慮選用的涂層設備。
真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊,工藝有蒸鍍、濺鍍等。真空離子鍍,又稱真空鍍膜,真空電鍍的做法現在是一種比較流行的做法,做出來的產品金屬感強,亮度高,而相對其他的鍍膜法來說,成本較低,對環境的污染小,現在為各行業廣泛采用。
從所周知,水電鍍行業的損耗率通常是5%-8%左右,因此在實際合作洽談過程中,經常有客戶拿水電鍍的損耗率來與真空電鍍工藝損耗率來對比,殊不知,水電鍍和真空電鍍雖然同屬于表面電鍍加工行業,但工藝卻完全截然不同,水電鍍加工是一種比較傳統的表面電鍍加工工藝,其原理是通過化學液體的浸泡、以化學置換的方式達到在塑膠表面添加金屬膜層增強外觀件金屬質感的的目的,由于工藝原理所限,水電鍍加工的產品在環保、顏色豐富度、信賴性、信號穿透率、光穿透率、局部蔽鍍等方面有著天然的缺陷,很多要求較高的電子行業產品因上述原因而不得不更改設計方案放棄表面水電鍍加工;真空電鍍工藝隨之應運而生,相比于水電鍍的化學置換工藝,真空電鍍采用純物理的真空蒸發鍍膜方式將金屬材料在氣態蒸發狀態下均勻吸附到塑膠件的表面,并在冷卻后形成完整的金屬膜層,解決了上述水電鍍加工的眾多弊端,加上真空電鍍加工工藝在ROHS及環境友好等方面的表現,已經越來越被眾多的設計研發人員采用,廣泛的應用于各行各業需要用金屬質感提升產品檔次的外觀件產品中。
PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環保型表面處理方法,它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。
PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.1μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~2μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工。
我們目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色,藍色,紫色,紅色,綠色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數,可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量,使顏色得以量化,以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。