當(dāng)前，在我國(guó)使用的鍍膜玻璃主要有以下幾種方式生產(chǎn)：

1．電子槍蒸發(fā)鍍膜機(jī)：利用熱蒸發(fā)器的真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)鍍膜玻璃，因整體生產(chǎn)是斷續(xù)進(jìn)行的，清洗后的部分玻璃常常需在車間中等待一段時(shí)間后方可進(jìn)行鍍膜室鍍膜。

當(dāng)前，在我國(guó)使用的鍍膜玻璃主要：

1．真空蒸發(fā)鍍膜：利用熱蒸發(fā)器的真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)鍍膜玻璃，因整體生產(chǎn)是斷續(xù)進(jìn)行的，清洗后的部分玻璃常常需在車間中等待一段時(shí)間后方可進(jìn)行鍍膜室鍍膜，此時(shí)，玻璃會(huì)受到二次污染，致使被污染部分鍍上的膜層易脫落，膜層的均勻性差，易有彩虹色差及反射率偏高，并且玻璃只鍍一層膜，極易在空氣中變色且不能生產(chǎn)大規(guī)格玻璃。國(guó)內(nèi)外實(shí)踐證明，大功率電子槍是鋼帶連續(xù)真空鍍膜工藝的理想熱源。因此，建設(shè)部作出明確規(guī)定，此類鍍膜玻璃不易作幕墻玻璃。

帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級(jí)階段，在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠(yuǎn)不能與熱浸鍍、電鍍相比。阻礙帶鋼真空鍍膜發(fā)展的主要原因是生產(chǎn)率低，成本較高。有效的解決方法是開發(fā)研制高速，穩(wěn)定的高功率蒸發(fā)源。

大功率電子槍的開發(fā)和使用是帶鋼真空鍍膜中的關(guān)鍵技術(shù)。一般的真空蒸發(fā)鍍膜可以采用電阻加熱和感應(yīng)加熱。它的設(shè)備較簡(jiǎn)單，但加熱溫度和蒸發(fā)速率較低。要滿足連續(xù)式工業(yè)化生產(chǎn)鋼帶真空鍍膜的需要，就必須使用加熱速度快，熔化溫度高的熱源。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。Parylene如此高的介電強(qiáng)度主要?dú)w功于Parylene能形成連續(xù)無缺陷和無其它填充物的薄膜。簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。