鋼研納克檢測技術股份有限公司是國內早使用和開發ICP光譜儀和ICP-MS的科研單位之一，依托國家鋼鐵材料測試中心，培育了一批ICP光譜儀和ICP-MS應用和儀器。ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018和ICP-MS儀器計量檢定規程GB/T 34826-2017的起草單位。國家重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位，中國ICP系列分析儀器的發展。擁有30多年ICP方法開發經驗，懂ICP應用的國產ICP&ICP-MS制造商。免費培訓，解決客戶應用方法的難題，讓您ICP光譜儀和ICP-MS用的更好！央企品牌，上市公司，品質之選！歡迎來電洽談.

ICP-MS簡述

20世紀60年代末期，采用電感耦合等離子體源的原子光譜技術成為當時應用于微量元素分析的一項非常有前

途的技術（Greenfield等，1964； Wendt與Fassel, 1965）。但在分析超低含量物質時由于背景光譜增強，光譜干擾

嚴重使分析靈敏度和準確度達不到要求。只有質譜法能同時滿足譜圖簡單、分辨率適中和較低檢出限的要求。因此， ICP-AES所具有的樣品易于引入、分析速度快、多元素同時分析的特點與質譜儀的聯用成為科學和商業上研究的

熱點。1970年許多公司深入的參與了該技術的研究，CP作為發射源使等離子體中分析物有效電離能夠滿足新一代

儀器源的要求。同時也注意到惰性氣體在大氣壓下的電等離子體可能是一個很好的離子源。因此人們采用四極桿 質量分析器和通道式離子檢測器開展可行性研究。Gral在70年代中期首先報道了用等離子體作為離子源的質譜分 析法。1981年Gray在Surrey實驗室設計完成了 ICP源上所預期性能的設備，獲得了張ICP譜圖。1983年英 國VG公司與加拿大Sciex公司推出商業化的ICP-MS，1984年在用戶實驗室才安裝ICP-MS。在此以后 ICP-MS在化學分析中廣泛應用開來。

ICP-MS全球裝機量已在8000臺以上，僅中國目前每年的新增裝機數就超過500臺。近三年來，國際上ICP?MS 的主要生產商推出了若干型號的四極桿式ICP-MS，如Agilent在2012年推出的8800型號、2014年推出的 7900型號，PerkinElmer于2014年推出的Nexion350系列型號、ThermoFisher于2012年推出的iCap-Q系列型號， 2014年德國耶拿完成對布魯克ICP-MS生產線的收購，并于今年2月推出的PlasmaQuant系列型號，而我國鋼研納克推出了國產ICP-MS PlasmaMS

300 。

四極桿ICP-MS的基本結構由進樣系統、離子源、錐及離子透鏡、四極桿分析器、真空系統和檢測器等硬件部

分組成（部分型號還包括用以消除干擾的反應池部分），此外還包括用于冷卻系統、氣體管路、儀器控制和數據 分析系統等支撐輔助部分。下面我們按照ICP-MS的每一個結構部分，看近年來的技術進展。

電感耦合等離子體質譜法測定化妝品中的37種元素

立電感耦合等離子體質譜法測定化妝品中37種元素的檢測方法，根據化妝品不同基質，選用-微波消解體系或-濕法消解體系，采用在線內標及碰撞反應池技術校正機體效應，外標法

定量進行ICP-MS測定。方法檢出限1 ~ 80瞄/kg，線性相關系數均大于0.997, RSD為1.0% - 8.9%， 加標回收率為81.3% ~ 115.2%。實驗結果表明，該方法簡便、快速、靈敏度高、準確性好，適用于化妝品中37種元素的同時測定。

鋼研納克國產ICP-MS具有多元素同時檢測的優勢，靈敏度高、 線性范圍寬，既適用于樣品中痕量元素的檢測也能同時滿足微量元素的測定。ICP-MS分析中干擾問題是影響分析 結果準確度和精密度的障礙，其主要的干擾方式分為質譜干擾、基體干擾和物理效應干擾三大類。質譜干擾

可通過選擇合適的同位素離子及儀器校正消除；物理干擾可通過清洗霧化室，進樣錐及進樣管路消除；基體干擾 是指復雜的基體引起的ICP平衡的轉變，對待側元素的質譜信號產生抑制或增應，可采用加入內標元素校正

和采用碰撞/反應池技術消除。針對化妝品的不同劑型，應用微波消解和濕法消解體系，建立了電感耦合等離子體 質譜對8類化妝品中37種元素的測定方法，為化妝品中重金屬及其他有害元素的監測提供了技術支持。