近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學(xué)EUV項目把ASML的光刻機(jī)巨大化，實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)國產(chǎn)化，并表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。
稱該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機(jī)工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。
對此，中國電子工程設(shè)計院有限公司(下稱中國電子院)9月18日發(fā)聲，
北京高能同步輻射光源項目實(shí)拍圖。圖片來源：中國電子院
北京高能同步輻射光源項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設(shè)，將于2025年底投入使用。
中國電子院解釋稱，HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強(qiáng)大穿透力的巨型X光機(jī)，它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì)、深入內(nèi)部進(jìn)行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界，HEPS是進(jìn)行科學(xué)實(shí)驗的大科學(xué)裝置，并不是網(wǎng)傳的光刻機(jī)工廠。