但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。

2.化學組分上的均勻性：

就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。

3.晶格有序度的均勻性：

這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題，具體見下。

納米防水涂層已經通IPX7防水認證，也就是可以在 1 米的水域正常工作 30 分鐘不損壞。對于不同的濺射材料和基片，參數需要實驗確定，是各不相同的，鍍膜設備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。綜上所述，納米防水涂層是實現電子產品防水功能的方法之一，IPX7防水等級，讓你無論到戶外探險、還是在泳池中、甚至是早上起來沖個淋浴，都可以將這些產品帶在身邊，而且安全環保，在長時間使用過程中不會失效，穩定性好，從而使經過納米防水涂層處理的電子產品在防水性能上實現質的飛躍，大幅度提高產品的附加值。

真空鍍膜工藝：為使光學零件能滿足在光電儀器及元器件中所需的光學，電學，物理性能，而可以在其表面上鍍一層，多層乃至上百層的薄膜。因此將石英材料于真空條件下鍍在有機鏡片表面，形成一層非常硬的抗磨損膜，但由于其熱脹系數與片基材料的不匹配，很容易脫膜和膜層脆裂，因此抗磨損效果不理想。例如增透膜、反射膜、分光膜、濾光膜、電熱膜、保護膜、偏振膜等。光學零件的鍍膜主要分物理和化學鍍膜兩類。由于真空技術和膜系監控技術的發展，較易獲得性能穩定，結構復雜的膜層。故在生產中多以真空鍍膜法為主。

按照薄膜的使用性能分類，常見的膜層有：增透膜，反射膜，分光膜，濾光膜，電熱膜，導電膜及保護膜等。按照薄膜的結構可以分為單層膜，雙層膜及多層膜等。