真空除氣儲存柜設備用途

本系統主要分為機械與電控兩大部分。下面將詳述各個部分構成。

機械部分主要由以下兩個單元構成：真空箱室單元、真空獲得系統單元。

真空除氣儲存柜設備主要應用于金屬材料與非金屬材料的高真空熱處理。主要應用行業與工藝：半導體硅片除氣；3D打印金屬工件與合金材料的高真空熱處理；X射線管高真空除氣。

真空除氣儲存柜的加熱系統

1、加熱區尺寸：定制

2、加熱功率：30-80 KW（實際功率可調）

3、加熱元件：鉬片

4、隔熱組件：鉬+不銹鋼

5、溫度測量：S型熱電偶

6、控溫精度：±1℃

7、升溫速率 ：由室溫升至1000℃小于80min（空載）

8、加熱室：采用圓筒形加熱室結構。隔熱屏采用多層鉬結構，各層之間采用99剛玉陶瓷，發熱體為鉬片，鉬片均勻環繞在隔熱屏周圍，實現良好的溫度均勻性。具有使用壽命長、隔熱保溫性能好、真空放氣量較少。外框使用不銹鋼（310S）板材料，并且焊接多道加強筋以保證不變形。

9、加熱控制：采用PID智能控溫模塊設計，可編輯30+段升溫曲線，存貯20+組工藝配方，組合PLC等實現超壓、超溫、過流等自動報警保護功能，10寸液晶觸摸屏顯示操作，具有操作方便，功能強大，穩定性好等特點。

真空除氣儲存柜通過以下技術方案得以實現

一種真空除氣存儲柜，包括真空室、真空系統、加熱系統、水冷、柜體等，柜體內設置有一個或多個儲物室，儲物室朝向柜體前端的一端為儲物室的開口端，柜體上設置有將儲物室的開口端封閉的封蓋，儲物室的內部底端設置有能夠自儲物室的開口端抽出的水平的托板，托板的兩側與儲物室內部相對的兩個側壁滑動相連，真空除氣爐。

真空除氣存儲柜工藝流程

真空除氣存儲柜、真空除氣爐的控制操作可以選擇手動與自動兩種模式。

該設備有兩種工藝流程：常溫保壓工藝與加熱除氣工藝。用戶可根據實際情況需要，在設備上設定需要的執行功能與詳細的目標參數。當用戶設定參數之后，系統即按照用戶的設定參數默認執行。

設備具有很高的智能化，當用戶設定的參數目標值存在錯誤或邏輯沖突時，系統會及時提醒并不能按照錯誤的數據啟動運行設備。并可以提供20+組不同的參數組，供客戶選擇和修改。并且具備工藝記憶功能，方便客戶的使用。