當今鍍膜行業(yè)使用的制作方式主要有兩種，一種是化學氣相沉積，也就是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣相沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。化學鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學反應(yīng)生成薄膜的過程。在化學鍍膜的過程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍件表層雜質(zhì)多，鍍出來的效果不好。化學鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高，一般要控制在 1000℃左右，但很多基體材料是無法經(jīng)受如此高溫，性能變壞。如在硬質(zhì)合金刀具上蒸鍍 TiN，基體擴散出來的碳會與溶液發(fā)生反應(yīng)而形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。而 PVD 技術(shù)解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性好，性能更穩(wěn)定，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高 2-10 倍。

因此，從行業(yè)的技術(shù)發(fā)展趨勢來看，等離子處理、真空法將成為未來行業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向。

退涂

退涂一般有有化學退涂和電解退涂兩種方式，兩者都是采用化學溶液與涂層表面反應(yīng)的方式進行清潔舊涂層。化學退涂配液方便，設(shè)備簡單，但是退涂速度慢，不同種類的涂層需要特定的化學溶液才會有效果。電解退涂幾乎可以退掉所有涂層，并且退涂速度快、但是設(shè)備造價高昂，經(jīng)濟實用性不如化學退涂。

PVD涂層有哪些常用表面處理技術(shù)主要就是上述七種技術(shù)，不同的表面處理技術(shù)作用也不同，但是對于PVD涂層質(zhì)量都有良好改善，能夠增強涂層表面質(zhì)量，提高使用效果。

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pvd鍍膜機廠家與您分享真空蒸鍍工藝實例 以塑料金屬化為例,真空蒸鍍工藝包括：鍍前處理、鍍膜及后處理。

真空蒸鍍的基本工藝過程如下：

(1)鍍前處理，包括清洗鍍件和預處理。具體清洗方法有清洗劑清洗、化學溶劑清洗、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。具體預處理有除靜電，涂底漆等。

(2)裝爐，包括真空室清理及鍍件掛具的清洗，蒸發(fā)源安裝、調(diào)試、鍍件褂卡。

(3)抽真空，一般先粗抽至6．6Pa以上，更早打開擴散泵的前級維持真空泵，加熱擴散泵，待預熱足夠后，打開高閥，用擴散泵抽至6×10-3Pa半底真空度。

(4)烘烤，將鍍件烘烤加熱到所需溫度。

(5)離子轟擊，真空度一般在10Pa～10-1Pa，離子轟擊電壓200V～1kV負高壓，離擊時間為5min～30min,

(6)預熔，調(diào)整電流使鍍料預熔，除氣1min～2min。

(7)蒸發(fā)沉積，根據(jù)要求調(diào)整蒸發(fā)電流，直到所需沉積時間結(jié)束。

(8)冷卻，鍍件在真空室內(nèi)冷卻到一定溫度。

(9)出爐，．取件后，關(guān)閉真空室，抽真空至l × l0-1Pa，擴散泵冷卻到允許溫度，才可關(guān)閉維持泵和冷卻水。

(10)后處理，涂面漆。