各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來(lái)，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造；彈簧刷適用于玻璃機(jī)械、紡織印染機(jī)械、鋼鐵工業(yè)、汽車工業(yè)、制藥機(jī)械、電子工業(yè)、包裝機(jī)械、印刷機(jī)械、家電業(yè)、門窗業(yè)、家具業(yè)、機(jī)械、食品機(jī)械、飲品、水果、蔬菜、環(huán)衛(wèi)環(huán)保、等行業(yè)產(chǎn)品的清洗、除塵、拋光、密封、吸水和高溫下帶材輸送。在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來(lái)越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。

各種純度鋁中的雜質(zhì)含量及剩余電阻率如表2所示。超純金屬超純的純度也可以用剩余電阻率來(lái)測(cè)定，其值約為2×10-5。現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是對(duì)金屬純度要求越來(lái)越高。因?yàn)榻饘傥茨苓_(dá)到一定純度的情況下，金屬特性往往為雜質(zhì)所掩蓋。不僅是半導(dǎo)體材料，其他金屬也有同樣的情況，由于雜質(zhì)存在影響金屬的性能。超純金屬超純的純度也可以用剩余電阻率來(lái)測(cè)定，其值約為2×10-5。

鎢過(guò)去用作燈泡的燈絲，由于脆性而使處理上有困難，在適當(dāng)提純之后，這種缺點(diǎn)即可以克服（鎢絲也有摻雜及加工問(wèn)題）。

濺射靶材ITO靶材的生產(chǎn)工藝ITO靶材的生產(chǎn)工藝可以分為3種：熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結(jié)法。各種生產(chǎn)工藝及其特點(diǎn)簡(jiǎn)介如下：

熱等靜壓法：ITO靶材的熱等靜壓制作過(guò)程是將粉末或預(yù)先成形的胚體，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結(jié)。熱等靜壓工藝制造產(chǎn)品密度高、物理機(jī)械性能好，但設(shè)備投入高，生產(chǎn)成本高，產(chǎn)品的缺氧率高。在儲(chǔ)存技術(shù)方面，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。