真空鍍膜就是于真空室內，采用一定方法使材料凝聚成膜的工藝。在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。　廣義的真空鍍膜還包括在屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。

真空鍍膜技術的應用時較早的。真空鍍膜技術在電子方面開始是用來制造電阻和電容元件，之后隨著半導體技術在電機學領域中的應用，又使這一技術成為晶體管制造和集成電路生產的必要工藝手段。

真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類，因為真空鍍膜加工工作環境要要求高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜加工，影響均勻性的因素也不盡相同。

真空鍍膜過程其工藝之多非常復雜，真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類，對于不同原理的真空鍍膜加工，影響均勻性的因素也不盡相同。

真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產品品質。真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相堆積技術和化學氣相堆積技術。