真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)突破性技術(shù)，利用物理或者化學(xué)方法并吸收一系列新技術(shù)而成的工藝，目的就是為了在實(shí)際生產(chǎn)中為產(chǎn)品創(chuàng)造薄膜保護(hù)層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。

為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間。這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長(zhǎng)加工產(chǎn)品的使用壽命，不僅如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為顯著的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。

實(shí)際應(yīng)用中，我們往往會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產(chǎn)品，蒸發(fā)鍍主要用于塑膠產(chǎn)品，光學(xué)離子鍍主要用于璃玻產(chǎn)品。真空電鍍?yōu)榇趴貫R射鍍，以電鍍不銹鋼產(chǎn)品材質(zhì)為主，可以電鍍金色、玫瑰金色、黑色、槍色、藍(lán)色等顏色，質(zhì)量穩(wěn)定，品質(zhì)保障。真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法，做出來的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高．東莞市銘繪塑膠鍍膜有限公司而相對(duì)其他的鍍膜法來說，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用。

但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

2.化學(xué)組分上的均勻性：

就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。

3.晶格有序度的均勻性：

這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題，具體見下。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射)，晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間。對(duì)于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問題，但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，真空鍍膜對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則要求壓力更低（10-5Pa）。

納米鍍膜主要的成分是從石英砂中提純的納米級(jí)別的二氧化硅,其單晶分子大小達(dá)到8-10nm,作用原理是,手機(jī)的鏡面雖然在肉眼的觀察下是平整的,但是實(shí)際表面是有很多分子的縫隙,我們就利用這種超微觀的納米二氧化硅來填充這些分子的縫隙從而達(dá)到提高屏幕密度硬度。可以有效提高屏幕的光滑度，提升手機(jī)屏幕畫質(zhì)，色彩更逼真，觸控格更靈敏。無論是那種納米手機(jī)鍍膜，期主要成份都是二氧化硅。也就是液體玻璃。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較的測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。