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公司基本資料信息
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曝光一般在曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行,目前的曝光機(jī)依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷,曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時(shí)間、菲林膠片質(zhì)量等因素。
曝光不足,導(dǎo)致單體聚合不,那么在顯影過(guò)程中,會(huì)使的膠膜變軟,線條不清晰,色澤暗淡,脫膠。曝光過(guò)度,會(huì)造成難顯影,留有殘膠。
蝕刻曝光就是通過(guò)曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除,在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液,達(dá)到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。圖形顯影
經(jīng)過(guò)曝光過(guò)的蓋板進(jìn)入顯影設(shè)備,對(duì)需要去除的油墨進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),將不需要留下的地方進(jìn)行剝離,然后表面清洗和干燥
顯影就是在復(fù)印機(jī)、打印機(jī)中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見(jiàn)的色粉圖像的過(guò)程。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時(shí),顯影色粉所帶電荷的極性,與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。