用于電子照相成像裝置和噴墨成像裝置的導(dǎo)電輥是通過將導(dǎo)電性泡沫彈性體包覆于導(dǎo)電性金屬芯材的外周而制成的。所述導(dǎo)電性泡沫彈性體是通過將導(dǎo)電性材料分散在普通彈性體中以使該彈性體具有導(dǎo)電性，并使用空氣或者氮?dú)鈱?duì)彈性體進(jìn)行機(jī)械發(fā)泡、或者使用發(fā)泡劑進(jìn)行化學(xué)發(fā)泡而形成的。熱壓法：ITO靶材的熱壓制作過程是在石墨或氧化鋁制的模具內(nèi)充填入適當(dāng)粉末以后，以100kgf/cm2～1000kgf/cm2的壓力單軸向加壓，同時(shí)以1000℃～1600℃進(jìn)行燒結(jié)。

導(dǎo)電輥，所述導(dǎo)電輥的電阻率幾乎不會(huì)隨著環(huán)境變化而改變。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種導(dǎo)電輥，該導(dǎo)電輥包括導(dǎo)電性芯材，以及包覆于所述導(dǎo)電性芯材的外周的泡沫彈性層。

各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造；采用連續(xù)硫化法時(shí)，在擠壓機(jī)的擠壓筒內(nèi)的半徑方向上有非常大的剪切速度分布，這可能會(huì)影響電子導(dǎo)電性填充劑的分散。在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。

各種純度鋁中的雜質(zhì)含量及剩余電阻率如表2所示。超純金屬超純的純度也可以用剩余電阻率來測(cè)定，其值約為2×10-5。現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是對(duì)金屬純度要求越來越高。因?yàn)榻饘傥茨苓_(dá)到一定純度的情況下，金屬特性往往為雜質(zhì)所掩蓋。整體刷輥組裝后對(duì)尼龍刷輥外圓進(jìn)行整體修整磨光提高刷輥平衡度延長使用周期。不僅是半導(dǎo)體材料，其他金屬也有同樣的情況，由于雜質(zhì)存在影響金屬的性能。

鎢過去用作燈泡的燈絲，由于脆性而使處理上有困難，在適當(dāng)提純之后，這種缺點(diǎn)即可以克服（鎢絲也有摻雜及加工問題）。

各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線。采用聚氨酯橡膠、表氯橡膠等離子導(dǎo)電性橡膠(聚合物)或含有季銨鹽等離子導(dǎo)電材料的離子導(dǎo)電性聚合物的組合物的方法。

在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。