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公司基本資料信息
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超聲波掃描顯微鏡測(cè)試分類(lèi):
按接收信息模式可分為反射模式與透射模式。
按掃描方式分可分為 C掃,B掃,X掃,Z掃,分焦距掃描,分頻率掃描等多種方式
超聲波掃描顯微鏡的應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體電子行業(yè):半導(dǎo)體晶圓片、封裝器件、大功率器件IGBT、紅外器件、光電傳感器件、SMT貼片器件、MEMS等;
材料行業(yè):復(fù)合材料、鍍膜、電鍍、注塑、合金、超導(dǎo)材料、陶瓷、金屬焊接、摩擦界面等;
生物醫(yī)學(xué):細(xì)胞動(dòng)態(tài)研究、骨骼、血管的研究等.
塑料封裝IC、晶片、PCB、LED
超聲波掃描顯微鏡應(yīng)用范圍:
超聲波顯微鏡的在失效分析中的優(yōu)勢(shì)
非破壞性、無(wú)損檢測(cè)材料或IC芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)
可分層掃描、多層掃描
實(shí)施、直觀的圖像及分析
缺陷的測(cè)量及缺陷面積和數(shù)量統(tǒng)計(jì)
可顯示材料內(nèi)部的三維圖像
對(duì)人體是沒(méi)有傷害的
可檢測(cè)各種缺陷(裂紋、分層、夾雜物、附著物、空洞、孔洞等)
偵測(cè)到亮點(diǎn)之情況;
會(huì)產(chǎn)生亮點(diǎn)的缺陷:1.漏電結(jié);2.解除毛刺;3.熱電子效應(yīng);4閂鎖效應(yīng); 5氧化層漏電;6多晶硅須;7襯底損失;8.物理?yè)p傷等。 偵測(cè)不到亮點(diǎn)之情況 不會(huì)出現(xiàn)亮點(diǎn)之故障:1.亮點(diǎn)位置被擋到或遮蔽的情形(埋入式的接面及 大面積金屬線(xiàn)底下的漏電位置);2.歐姆接觸;3.金屬互聯(lián)短路;4.表面 反型層;5.硅導(dǎo)電通路等。
點(diǎn)被遮蔽之情況:埋入式的接面及大面積金屬線(xiàn)底下的漏電位置,這種情 況可采用Backside模式,但是只能探測(cè)近紅外波段的發(fā)光,且需要減薄及 拋光處理。