電流密度的凹凸也會影響不銹鋼真空電鍍的作用，當電流密度過低時，陰極極化作用較小，鍍層結晶粗大，乃至沒有鍍層。鍍液溫度的升高能加速分散，降低濃差極化，此外，升溫還能使離子的脫水過程加速。跟著電流密度的增加，陰極極化作用跟著增加，鍍層晶粒越來越細。

為了保障不銹鋼真空電鍍的質量，我們在確保良好的電鍍環(huán)境同時，也需要有一個能產生正常鍍層的電流密度范圍?？梢院侠磉\用鍍液中的光亮劑、整平劑、潤濕劑等添加劑來改善鍍層的品質。

真空鍍膜機離子鍍技術市場使用占比率非常高，鍍餐具，鍍家居，鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術，離子鍍膜技術不僅僅在國內受追捧，國外也是一樣受喜愛。那么，真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的？下面小編為大家詳細介紹一下：

離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質離子的轟擊下，蒸發(fā)物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優(yōu)點。

真空濺射鍍膜的特點

對于任何待鍍材料,只有能做成靶材,就能實現(xiàn)濺射

濺射所獲得的薄膜與基片結合良好

濺射所獲得的薄膜純度高,致密性好

濺射工藝可重復性好,膜厚可控制,同時可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜

真空濺射鍍膜的缺點

濺射設備復雜

濺射淀積的成膜速率低,真空蒸鍍淀積速率為0.1~5μm/min

基板升溫較高和易受雜質氣體影響