1分鐘前 啟東亮面曝光顯影加工承諾守信 利成感光五金廠[利成感光38dbdb8]內容：

曝光顯影工藝在微電子加工中具有重要作用，主要用于將芯片圖案轉移至硅片表面，從而實現微電子器件的制造。

在實際應用中，曝光顯影工藝通常用于以下方面：制造微處理器：曝光顯影工藝是制造微處理器的主要工藝之一，通過在芯片表面制造出各種不同的電路和器件，實現芯片的功能。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產品線條變粗。3D曲面玻璃的曝光顯影技術的優勢在于：在玻璃表面有極高的解像力，利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統印刷解決的問題，具有精度高，量產性好，良率高等特點，采用曝光顯影技術，遮蔽油墨可控良率可達90%以上。

顯影：使用顯影液將未曝光的光刻膠清除掉，將芯片圖案暴露出來。刻蝕：使用化學反應或物理方法將芯片表面的材料刻蝕掉，形成所需的電子器件結構。清洗：將芯片在化學清洗液中清洗干凈，并使用干燥器進行干燥。顯影液去除并且清洗（rinse）：達到顯影時間后，使用DIW立即沖洗晶圓表面。去離子水不僅可以使顯影過程終止，而且會把顯影后缺陷顆粒沖洗掉。

曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發生聚合反應，然后通過顯影機，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，為感光的油墨被顯影液去除，通過這樣的方式，顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。