光纖光譜儀薄膜厚度測量

光學的膜厚測量系統基于白光干涉測量原理，可以測量的膜層厚度10nm-50μm，分辨率為1nm。薄膜測量在半導體晶片生長過程中經常被用到，因為等離子體刻蝕和淀積過程需要監控；其它應用如在金屬和玻璃材料基底上鍍透明光學膜層也需要測量膜層厚度。配套的廣州標旗應用軟件包括豐富的各種常用材料和膜層的n值和k值，可以實現膜層厚度的在線監測，并可以輸出到Excel文件進行過程控制。

微型光纖光譜儀和傳統光譜儀在工作原理上的差異

傳統光譜儀的工作原理是通過色散元件和光學系統將被分析物質發射的光譜按不同的波長分開排列，然后加以記錄和測量。

而微型光纖光譜儀的工作原理則是通過將光信號轉換為電信號來測量光譜。具體來說，它主要包括光源、光纖和分光系統等部分。光源通常使用電弧燈或激光器來產生光線。光纖是光纖光譜儀的重要的傳輸部件，通常由一根玻璃或塑料光纖組成，可以傳輸不同波長光。分光系統是光纖光譜儀的重要的部分，它將光線按不同的波長分開。

總的來說，微型光纖光譜儀相對于傳統光譜儀，具有更小、更輕、更便捷的優點，可以更方便地用于各種移動設備上，從而提高了工作效率。

通用型光纖光譜儀是一種用于測量光譜的設備，通常由光源、光纖、分光器、探測器和信號處理器等組成。這種設備可以用于各種應用，包括環境監測、材料科學、生物醫學、食品和飲料質量控制、化學分析等。通用型光纖光譜儀具有多種優點，例如便攜性、靈活性、高精度和高分辨率等。

通用型近紅外光纖光譜儀是一款廣泛應用于科研和工業檢測領域的儀器。該產品采用先進的傅里葉變換光學系統，具有分辨率高、靈敏度高、穩定性好等特點。在150到400納米波段范圍內，可實現從固體、液體樣品到大分子有機物等不同物質的快速無損分析測定。此外，它還配備了多種附件模塊，可根據實際需求進行選擇使用。