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真空鍍膜是一種在真空環境下，利用各種物理方法將金屬、非金屬、化合物等材料沉積在基底表面，形成薄膜的技術。真空鍍膜技術廣泛應用于電子、光學、裝飾、防腐蝕等領域，具有精度高、附著力強、

真空鍍膜的主要優點包括：附著力強：由于是在真空環境下沉積薄膜，因此薄膜與基底之間的附著力更強，不易脫落。

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真空鍍膜技術不斷創新發展，以下是其中幾個主要的創新：高速磁旋轉鍍膜技術：高速磁旋轉鍍膜技術是一種新型的鍍膜技術，它利用高速旋轉的磁場來控制鍍膜過程中薄膜的形態和性質。與傳統的真空鍍膜技術相比，高速磁旋轉鍍膜技術具有更高的薄膜質量和沉積速度，可以大幅度提高鍍膜效率和降低生產成本。納米復合鍍膜技術：納米復合鍍膜技術是一種將納米材料與鍍膜材料相結合的技術。通過將納米材料添加到鍍膜材料中，可以顯著提高鍍膜材料的性能和穩定性。這種技術可以應用于各種領域，如光學、電子、生物醫學等。特種燈具反光杯鍍膜加工

真空鍍膜加工的作用是利用電解的基本原理，在某些金屬表面嵌入一層其他金屬或鋁合金的全過程。它是一種PVD鍍膜工藝，利用電解作用，使金屬或其他原料制成的表面附著一層金屬膜，從而具有避免侵蝕、提高耐磨性、導電性、反射性、美觀大方等效果1。

真空鍍膜加工主要分為三種類型：真空蒸發、磁控濺射鍍膜和離子鍍2。

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