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ICP光譜儀行業在迅速發展
全球已進入科技信息化時代,科技技術革命正在逐步滲透到經濟社會的各個產業,而分析行業同樣在迅速發展。越來越多企業對產品質量的要求越來越高,ICP光譜儀器設備也成為時代發展下提升產品質量的新風向。
隨著工業的發展和產品要求的提高,研發新型和性能金屬材料的需求日益增加,各種痕量元素的測定變得愈加重要。
同時,傳統的化學分析方法操作步驟比較繁瑣,在緊急情況下,不能及時得到分析結果;其次,化學分析完成后,試劑的處理是一個難點,隨意處置會造成環境污染。因此光譜設備相對傳統化學分析方法,是金屬冶煉,鑄造等行業的更好選擇。
另一方面,直讀ICP光譜儀測樣非常快速,可以一次性分析多元素,節省分析時間,適合用于爐前快速分析。分析結果準確,是許多鑄造,金屬冶煉的必備工具。
企業對產品質量的要求對ICP光譜儀應用領域的進一步拓寬起到了積極作用,極大地帶動了ICP光譜儀器設備市場需求量 的增加。隨著我國經濟發展邁進新時代,分析儀器行業亦開啟了新篇章。
如何給ICP光譜儀防塵?
由于ICP光譜儀的價位高昂,所以我們在日常使用中也要做好養護工作,今天我們就來聊聊如何給ICP光譜儀防塵。
在我國國內一般實驗室都不具備過濾塵埃、防塵的設施,因此光譜儀需要進行防塵處理。
當實驗室內需要采用排風機,排除儀器的熱量及工作時產生的有毒氣體時,實驗室與外部就形成壓力差,實驗室產生負壓,室外含有大量灰塵的空氣從門窗的縫隙中流入室內,大量積聚在光譜儀的各個部位上,容易造成高壓組件或接頭打火,電路板及接線、插座等短路、漏電等各種各樣的故障,因此,ICP光譜儀需要經常進行除塵。特別是計算機、電子控制電路、高頻發生器、顯示器、打印機、磁盤驅動器等,定期拆卸或打開,用小毛刷清掃,并同時使用吸塵器將各個部分的積塵吸除。對光電倍增管負高壓電源線、及計算機顯示器的高壓線及接頭,還要用紗布沾上少許無水酒精小心的抹除積炭和灰塵。光譜儀的磁盤驅動器及打印機清出灰塵之后,要在機械活動部件滴加少許儀表油。打印機的打印頭還要拆下,光譜儀要用軟毛刷刷掃,并用絨布抹凈,防止被紙屑堵塞,然后按照說明書調整一定的打印壓力。試樣多數不需經過化學處理就可分析,且固體、液體試樣均可直接分析,同時還可多元素同時測定,若用光電直讀光譜儀,則可在幾分鐘內同時作幾十個元素的定量測定。
對于儀器除塵,一般由電子,儀修或計算機的人員幫助,光譜儀儀器使用或管理人員如不懂電子知識,不了解儀器結構,不要輕易去動,以免發生意外,除塵應事先停機并關掉供電電源下進行。
以上就是給ICP光譜儀防塵介紹,如果您還有關于光譜儀的問題,歡迎咨詢小編。
ICP光譜儀是什么構成的?
一臺典型的ICP光譜儀主要由一個光學平臺和一個檢測系統組成。包括以下幾個主要部分:
1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統的物點。
2. 準直元件: 使狹縫發出的光線變為平行光。該準直元件可以是一獨立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上,如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。
3. 色散元件: 通常采用光柵,使光信號在空間上按波長分散成為多條光束。
4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束,使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像,其中每一像點對應于一特定波長。
5. 探測器陣列:放置于焦平面,用于測量各波長像點的光強度。該探測器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測器陣列。
ICP光譜儀的目標元素
ICP光譜儀是上世紀60年代提出、70年代迅速發展起來的,它的迅速發展和廣泛應用是與其克服了經典光源和原子化器的局限性分不開的,那么ICP光譜儀的目標元素都有哪些呢?下面小編就來介紹一下:
ICP光譜儀軟質樣品(例如:銅、鋁、鋅、鉛)必須車削表面或用酒精濕磨.磨好的表面一定不要玷污(例如用手觸摸).考慮到金屬熱漲冷縮效應,會影響光線穩定性.溫度變化會影響儀器的熱平衡,對和一些電器件會造成不穩定,若溫差較大對光路也會有影響.
ICP光譜儀對于鋼和鑄鐵(顆粒大小,對鋼是60到80之間,對鑄鐵是40到60之間),建議用適合于本儀器樣品的砂紙干磨.砂紙一定不要被高合金含量的樣品污染(例如:應該先用于低合金樣品,再用于高合金樣品).樣品必須在清潔的、規范的砂紙上磨(沒有先前激發處理留下的激發的痕跡).樣品表面不能被拋光(適時更新用過的砂紙).必須確保樣品在磨的過程中沒有過熱(樣品應該與砂紙只有短暫的接觸)。原子發射光譜儀主要應用于冶金、地質、石油、環保、化工、新材料、、衛生等方面的樣品分析。如果需要,樣品應該用水冷卻,再干燥,再盡可能短的時間干磨.
ICP光譜儀可用標樣中目標元素的“真實濃度”與分析線對和強度比(R)擬合工作曲線(校準曲線)。如果鐵含量變化過大,如高、中合金鋼,其影響不可忽略,需要用標樣中目標元素的“相對濃度”(或“濃度比”)與分析線對和強度比(R)擬合工作曲線,這就是我國光譜分析的前輩講的“誘導含量法”。如果希望用同一工作曲線同時分析高、中、低合金鋼,那就都要用“相對濃度”來校正基體含量的影響。更進一步,如果既要校正基體含量的影響,又要校正共存元素的干擾,就應該用“表觀濃度”來擬合工作曲線。使用ICP光譜儀環境很重要如果室內濕度過大,ICP光譜分析儀中的光學元件、光電元件、電子元件等受到潮濕后,易發生銹蝕、霉變等現象導致儀器接觸不良、性能下降,甚至報廢。
ICP光譜儀雖然本身測量準確度很高,但測定試樣中元素含量時, 所得結果與真實含量通常不一致,存在一定誤差,并且受諸多因素的影響,有的材料本身含量就很低。