6分鐘前 望牛墩曝光顯影廠值得信賴「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：顯影工藝一般步驟如下：圖2 顯影工藝步驟1.預噴淋（p-wet）：為了提高后面顯影液在硅片表面的附著性能，先在硅片表面噴上一點去離子水（Deionizedwater，DIW）。2.顯影噴淋（developer dispense）：曝光顯影工藝流程說明：1. 洗版：將磁鐵版放在洗版機中洗滌，消除污漬，使印版面干凈、平整。2. 顯影：將洗凈的磁鐵版放入顯影機中顯影，選擇合適的膜粒大小，以便根據圖案進行印刷。3. 曝光：使用燈光/照相機曝光，使磁鐵版上的油墨凝固，形成良好...

預噴淋（p-wet）：為了提高后面顯影液在硅片表面的附著性能，先在硅片表面噴上一點去離子水（Deionizedwater，DIW）。蝕刻產品線條變粗。所以的辦法是依據顯影的干膜光亮程度，圖像清晰度，圖案線條與底片相符，曝光設備參數和感光性能，確定適合的曝光時間。目前以藍思、伯恩、比亞迪等為首的加工商在探索驗證小批量產。3D玻璃遮蔽可以移印，貼合，曲面角度小還是可以做貼合工藝；還有就是曝光顯影；比如vivo X21，是中間貼膜，四周用噴墨曝光顯影補線方式。

顯影工藝是怎樣？

前工站加工的玻璃進入顯影設備，對需要去除的油墨進行化學反應，進行剝離，然后進行表面清洗，形成高精度的油墨3D蓋板。顯影操作需控制好顯影液的溫度、傳送速度、噴淋壓力等參數。

該加工方法主要應用于芯片制造過程中的多個步驟中，如制造晶體管、金屬線、電容、電阻等元件。通過它可以在芯片上制造出不同的圖案，從而實現各種電子器件的功能。曝光顯影加工是半導體工業中非常重要的一部分。