在應用真空鍍膜加工的全過程中，要求注意下列一些難題。

1、脈沖電鍍電源與電鍍槽中間的間距

為了保證脈沖電流量波型引入鍍槽時不崎變，且衰減系數小，期待在安裝時，脈沖電鍍電源與鍍槽的間距2-3m為宜，要不然對脈沖電流量波型的后沿危害很大，電鍍將不可以超過預估功效。

2、陽陰極的導線銜接方法

直流穩壓電源的導線銜接方法，不宜脈沖開關電源的銜接，脈沖電鍍電源的輸出銜接，期待二根導線的極間電容可以相抵導線的傳送電感器效用。

因此陰、陽極氧化導線有效的方法就是雙絞交叉后，引送至鍍槽邊，隨后維持脈沖波型不會改變。

3、導線的采用

因為是脈沖開關電源，為了避免趨夫效用，在導線挑選時，應挑選多芯銅芯電纜作脈沖開關電源到鍍槽的銜接線，多芯銅芯電纜絞織，期間的線電容器可以相抵其電感器效用。

(1)取下陽極氧化，加去雜水5ml/l，加溫60—70度C，氣體拌和2鐘頭。(手頭上無牢固去雜劑時不需加)。

(2)有機化學雜質多時，先報名參加3—5ml/lr的30%解決，氣拌和3鐘頭。

(3)將3—5g/l粉狀特異性在持續拌和下報名參加，再次氣拌和2鐘頭，關拌和靜放4鐘頭，過慮，一起清缸。

(4)清理維護保養陽極氧化掛回。

(5)用鍍了鎳的瓦楞紙形不銹鋼板作負極，在0.5—0.1安/平方分米的電流強度下開展電解法，直到壓型板表面變化為灰白色(類似暗鎳顏色)才行，此系統進程約4—12鐘頭，雜質太多需時更長。電解法時會必需打開氣體拌和或負極挪動，以發展解決實際效果。

(6)解析調節各主要參數、報名參加解決理中遺失的一部分防腐劑、濕冷劑，必需時開展霍耳槽試驗，及格后就可以試鍍。

真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。

相對于傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜。真空條件下制備薄膜，環境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。

鍍膜加工的優點

簡單清潔，不吸塵。

使塑料外表有導電性，改善美觀，外表光滑，金屬光澤彩色化，大大提高裝飾性。

改進外表硬度，原塑膠外表比金屬軟而易受損害，經過真空鍍膜技術，硬度及耐磨性大大添加。

能夠提高耐候性，削減吸水率，鍍膜次數愈多，孔愈少，吸水率下降，制品不易變形，提高耐熱性。

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

真空鍍膜設備的維護需要實際操作，不僅包括真空鍍膜設備本身，還包括真空鍍膜設備等配置。畢竟，配置是真空鍍膜設備維護的重要前提。