2分鐘前 莞城充電寶殼曝光顯影訂制服務周到「在線咨詢」[利成感光38dbdb8]內容：加工方法主要應用于芯片制造過程中的多個步驟中，如制造晶體管、金屬線、電容、電阻等元件。通過它可以在芯片上制造出不同的圖案，從而實現各種電子器件的功能。曝光顯影加工是半導體工業中非常重要的一部分。

曝光一般在曝光機內進行，目前的曝光機依據光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質量等因素。

將顯影液涂覆在曝光后的晶圓表面上，正膠的曝光區域和負膠的非曝光區域溶于顯影液中，進一步將反應聚合物和顯影液殘留沖洗后，就可以顯現出光刻膠中的圖形，顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。充電寶殼曝光顯影訂制充電寶殼曝光顯影訂制充電寶殼曝光顯影訂制充電寶殼曝光顯影訂制

將顯影液涂覆在曝光后的晶圓表面上，正膠的曝光區域和負膠的非曝光區域溶于顯影液中，進一步將反應聚合物和顯影液殘留沖洗后，就可以顯現出光刻膠中的圖形，曝光一般在曝光機內進行，曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產品線條變粗。為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應