磁控濺射靶材種類：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化銦靶材（InP），鉛靶材（PbAs），銦靶材（InAs）。王水在溶解了貴金屬的溶液中有大量的殘余和硝基物的存在給后續(xù)提煉或精煉貴金屬帶來操作困難或失敗，嚴(yán)重影響貴金屬的提煉或精煉工藝順利進(jìn)行，嚴(yán)重影響貴金屬回收率，故王水貴金屬溶液的濃縮趕硝是緊隨溶解其后的務(wù)必工序。

平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場(chǎng)，亦將帶動(dòng)ITO靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。不僅是半導(dǎo)體材料，其他金屬也有同樣的情況，由于雜質(zhì)存在影響金屬的性能。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫臺(tái)金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會(huì)氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺(tái)金靶材。如今一般采取方法生產(chǎn)ITO靶材，利用L}IRF反應(yīng)濺射鍍膜．它具有沉積速度快．且能控制膜厚，電導(dǎo)率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。

各種純度鋁中的雜質(zhì)含量及剩余電阻率如表2所示。貴重金屬回收指的是從一些特定材料中回收有再利用價(jià)值的金屬?gòu)U料。超純金屬超純的純度也可以用剩余電阻率來測(cè)定，其值約為2×10-5。現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是對(duì)金屬純度要求越來越高。因?yàn)榻饘傥茨苓_(dá)到一定純度的情況下，金屬特性往往為雜質(zhì)所掩蓋。不僅是半導(dǎo)體材料，其他金屬也有同樣的情況，由于雜質(zhì)存在影響金屬的性能。

鎢過去用作燈泡的燈絲，由于脆性而使處理上有困難，在適當(dāng)提純之后，這種缺點(diǎn)即可以克服（鎢絲也有摻雜及加工問題）。