晶格有序度的均勻性：

這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題，具體見下。

主要分類有兩個大種類：

蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等

一、對于蒸發鍍膜：

一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。

厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發功率，速率

4、真空度

5、鍍膜時間，厚度大小。

組分均勻性：

蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

晶向均勻性：

1、晶格匹配度

2、基片溫度

3、蒸發速率

(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

(3)蒸發或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

手機鍍膜機的工藝流程，塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材鍍鋁前不需進行表面處理，可直接進行蒸鍍。而BOPP、和CPP、PE等非極性塑料薄膜，在蒸鍍前需對薄膜表面進行電暈處理或涂布黏合層，使其表面張力達到38-42達因/厘米或具有良好的粘合性。手機真空防水鍍膜機蒸發鍍膜設備的工作原理,蒸發鍍膜是在真空條件下通過電阻或電子束加熱鍍膜材料，使其原子或分子從表面蒸出，沉積到基片表面從而形成薄膜的技術，該技術具有使用范圍廣、薄膜厚度高度可控、技術成熟、成本低廉等特點。蒸鍍時，將卷筒薄膜置放于真空室內，關閉真空室抽真空。

這種室溫沉積制備的0.1-100微米薄膜涂層，厚度均勻、致密無、透明無應力、不含助劑、不損傷工件、有優異的電絕緣性和防護性，是當代的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。Parylene是一種保護性高分子材料，中文名，聚對二，派瑞林它可在真空下氣相沉積，Parylene活性分子的良好穿透力能在元件內部、底部，周圍形成無，厚度均勻的透明絕緣涂層，給元件提供一個完整的防護涂層，抵御酸堿、鹽霧、霉菌及各種腐蝕性氣件的侵害，因為Parylene不是液體，所以涂敷過程中不會聚集，橋接式形成彎月面。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。