ICP光譜儀進(jìn)樣管插到水里有氣泡

ICP光譜儀進(jìn)樣管插到水里有氣泡，更換進(jìn)樣管位置后，水進(jìn)樣緩慢且停留在蠕動(dòng)泵點(diǎn)，請(qǐng)問(wèn)該如何解決？

泵管的調(diào)節(jié):首先逆時(shí)針旋松壓桿旋鈕，接著開(kāi)慢泵，右手順時(shí)針慢慢調(diào)緊旋鈕，左手同時(shí)拿著泵管進(jìn)樣端在純水（或空白）面上下抽動(dòng)，使溶液和空氣分段進(jìn)入泵管.

當(dāng)看到溶液段將吸不吸時(shí)，先停止旋動(dòng)旋鈕，接著在它上面做個(gè)刻度記號(hào)，后再擰多一圈半，這樣就調(diào)好了。下次拆裝的時(shí)候就好辨認(rèn)了。

ICP光譜儀之氣體控制系統(tǒng)的維護(hù)保養(yǎng)

今天ICP光譜儀小編和您分享，ICP光譜儀對(duì)氣體控制系統(tǒng)的維護(hù)保養(yǎng)，一起來(lái)了解。

ICP光譜儀氣體控制系統(tǒng)主要有凈化裝置和氣體流量控制裝置，有的還有制冷裝置。系統(tǒng)是否穩(wěn)定正常的運(yùn)行將關(guān)系到儀器測(cè)定數(shù)據(jù)的重現(xiàn)性和再現(xiàn)性，嚴(yán)重時(shí)影響儀器的使用壽命，因此該系統(tǒng)維護(hù)保養(yǎng)是至關(guān)重要的。ICP光譜儀氣體控制系統(tǒng)主要有凈化裝置和氣體流量控制裝置，有的還有制冷裝置。對(duì)于凈化裝置檢查操作者要觀(guān)察干燥劑是否變色(檢查周期為1個(gè)月~2個(gè)月)，如果出現(xiàn)干燥劑變色，必須小心地將干燥管拆卸下來(lái)在120°C烘箱內(nèi)烘干(8~12)h，干燥劑顏色回復(fù)原色即可安裝使用;如果沒(méi)有恢復(fù)原色，說(shuō)明干燥劑失效，建議更換干燥劑;特別注意是，有的儀器干燥管安裝在隱蔽地方，操作不宜觀(guān)察和操作，對(duì)于這種ICP光譜儀，操作者應(yīng)該請(qǐng)儀器制造廠(chǎng)家人員來(lái)操作。

對(duì)于氣體流量控制裝置要定期(一般半年)檢查塑膠管路是否老化泄漏，管路接頭是否漏氣，氣體流量計(jì)和氣壓指針是否正常;如果聽(tīng)到管路泄氣的聲音，必須檢測(cè)塑膠管子和各個(gè)接口，檢查漏點(diǎn)的方法是：用洗滌劑水滴加載塑膠管和各個(gè)接頭上，看是否產(chǎn)生大氣泡來(lái)確定漏點(diǎn)。漏點(diǎn)確定后，根據(jù)漏點(diǎn)位置決定更換塑膠管或者給管路接頭纏生料帶來(lái)解決漏點(diǎn)問(wèn)題;在檢查氣體管道時(shí)，還要注意氣體管道接入進(jìn)樣系統(tǒng)時(shí)，各個(gè)載氣管道連接塑膠管長(zhǎng)短要適應(yīng)，管子太長(zhǎng)容易形成彎曲影響氣體流量穩(wěn)定，氣體形成脈動(dòng)影響數(shù)據(jù);對(duì)于制冷裝置應(yīng)該經(jīng)常清洗過(guò)濾網(wǎng)積灰，和定期更換水冷卻，保證制冷劑正常運(yùn)行，以上工作可由操作者完成，除此之外，氣體流量計(jì)、氣壓表和電磁閥也應(yīng)該檢測(cè)，如果出現(xiàn)故障應(yīng)該由本單位維護(hù)人員及時(shí)更換。由于OMA不再使用感光乳膠，避免和省去了暗室處理以及之后的一系列繁瑣處理，測(cè)量工作，使傳統(tǒng)的光譜技術(shù)發(fā)生了根本的改變，大大改善了工作條件，提高了工作效率。

以上就是ICP光譜儀對(duì)氣體控制系統(tǒng)的維護(hù)保養(yǎng)，如果您還有什么關(guān)于ICP光譜儀的問(wèn)題歡迎聯(lián)系ICP光譜儀小編。

ICP光譜儀是什么構(gòu)成的？

一臺(tái)典型的ICP光譜儀主要由一個(gè)光學(xué)平臺(tái)和一個(gè)檢測(cè)系統(tǒng)組成。包括以下幾個(gè)主要部分：

1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點(diǎn)。

2. 準(zhǔn)直元件: 使狹縫發(fā)出的光線(xiàn)變?yōu)槠叫泄狻Ｔ摐?zhǔn)直元件可以是一獨(dú)立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。

3. 色散元件: 通常采用光柵，使光信號(hào)在空間上按波長(zhǎng)分散成為多條光束。

4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點(diǎn)對(duì)應(yīng)于一特定波長(zhǎng)。

5. 探測(cè)器陣列：放置于焦平面，用于測(cè)量各波長(zhǎng)像點(diǎn)的光強(qiáng)度。該探測(cè)器陣列可以是CCD陣列或其它種類(lèi)的光探測(cè)器陣列。