1分鐘前 龍崗鋼材316曝光顯影加工工廠承諾守信「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：

曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，

曝光一般在曝光機內(nèi)進行，技術(shù)關(guān)鍵點：低溫平行光源,波長根據(jù)油墨特性進行設(shè)備，目前光源是一大難點問題。利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統(tǒng)印刷解決的問題，具有精度高，量產(chǎn)性好，良率高等特點，采用曝光顯影技術(shù)，遮蔽油墨可控良率可達(dá)90%以上。

曝光顯影是一種用于光刻制程的技術(shù)，主要用于制造半導(dǎo)體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個階段：曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。

在傳統(tǒng)的膠片攝影中，曝光是通過光線交互感光材料來記錄影像的過程，而顯影是通過在顯影劑溶液中，通過還原和氧化反應(yīng)，使得感光材料上的顯影晶粒排列形成的銀像得以顯影出來，顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應(yīng)，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。曝光顯影是一種攝影技術(shù)，其過程包括兩個步驟：曝光和顯影。在曝光過程中，光線照射到感光材料上，使材料中的紋理或顏色發(fā)生變化。

曝光顯影工藝流程是微電子芯片制造中的一項關(guān)鍵制程，蝕刻加工中曝光顯影是蝕刻工序前的一步重要的工序，并在其表面上涂上一層光刻膠。布圖設(shè)計：根據(jù)芯片設(shè)計，制定合適的曝光和顯影條件，并在計算機上生成掩模圖形來輔助芯片制造。曝光：使用紫外線曝光機將掩膜上的圖案投射到光刻膠上。甩干（spin dry）：為了將表面的去離子水甩干，將硅片轉(zhuǎn)到高轉(zhuǎn)速

顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。顯影液去除并且清洗（rinse）：曝光：使用紫外線曝光機將掩膜上的圖案投射到光刻膠上。顯影：使用顯影液將未曝光的光刻膠清除掉，將芯片圖案暴露出來。刻蝕：使用化學(xué)反應(yīng)或物理方法將芯片表面的材料刻蝕掉，形成所需的電子器件結(jié)構(gòu)。清洗：將芯片在化學(xué)清洗液中清洗干凈，并使用干燥器進行干燥。