1分鐘前 龍崗鋼材316曝光顯影加工工廠承諾守信「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：

曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，

曝光一般在曝光機內進行，技術關鍵點：低溫平行光源,波長根據油墨特性進行設備，目前光源是一大難點問題。利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統印刷解決的問題，具有精度高，量產性好，良率高等特點，采用曝光顯影技術，遮蔽油墨可控良率可達90%以上。

曝光顯影是一種用于光刻制程的技術，主要用于制造半導體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個階段：曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。

在傳統的膠片攝影中，曝光是通過光線交互感光材料來記錄影像的過程，而顯影是通過在顯影劑溶液中，通過還原和氧化反應，使得感光材料上的顯影晶粒排列形成的銀像得以顯影出來，顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。曝光顯影是一種攝影技術，其過程包括兩個步驟：曝光和顯影。在曝光過程中，光線照射到感光材料上，使材料中的紋理或顏色發生變化。

曝光顯影工藝流程是微電子芯片制造中的一項關鍵制程，蝕刻加工中曝光顯影是蝕刻工序前的一步重要的工序，并在其表面上涂上一層光刻膠。布圖設計：根據芯片設計，制定合適的曝光和顯影條件，并在計算機上生成掩模圖形來輔助芯片制造。曝光：使用紫外線曝光機將掩膜上的圖案投射到光刻膠上。甩干（spin dry）：為了將表面的去離子水甩干，將硅片轉到高轉速

顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。顯影液去除并且清洗（rinse）：曝光：使用紫外線曝光機將掩膜上的圖案投射到光刻膠上。顯影：使用顯影液將未曝光的光刻膠清除掉，將芯片圖案暴露出來?？涛g：使用化學反應或物理方法將芯片表面的材料刻蝕掉，形成所需的電子器件結構。清洗：將芯片在化學清洗液中清洗干凈，并使用干燥器進行干燥。