減反射膜

是應用廣泛的光學薄膜，它可以減少光學表面的反射率而提高其透射率。對于單一波長，理論上的反射率可以降到零，透射率為百分之100;對于可見光譜段，反射率可以降低到百分之0.5，甚至更低，以保證一個由多個鏡片組成的復雜系統有足夠的透射率和低的雜散光。現代光學裝置沒有一個是不經過減反處理的。由于其具有很低的反射率和鮮艷的表面顏色，現代人們日常生活中的眼鏡普遍都鍍有減反射膜。

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pvd真空鍍膜廠家與您分享真空蒸鍍的設備及物理原理

真空蒸鍍設備主要由真空室和抽真空系統組成，真空室內有蒸發源(即蒸發加熱器)、基片及基片架、基片加熱器、排氣系統等。

將鍍膜材料置于真空室內的蒸發源中，在高真空條件下，通過蒸發源加熱使其蒸發，當蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后，膜材蒸氣的原子和分子從蒸發源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的碰撞與阻礙，可直接到達被鍍的基片表面上，由于基片溫度較低，膜材蒸氣粒子凝結其上而成膜。

化學藥劑噴淋

噴淋對于清洗來說非常有效，它能夠清理掉工件上絕大部分油污及污染物。尤其對有孔工件來說，更加有效，噴淋到工件上的化學藥劑會流入孔中或化學藥劑被直接噴進孔中對孔內壁進行沖洗。所以清洗裝卡時，一定要讓工件都能被噴淋到。另外，如果噴淋到工件上的化學藥劑不能及時馬走，會阻礙新鮮的化學藥劑繼續清洗工件，且在后面的烘干步驟中也不易烘干，所以裝卡時，要保證流到工件上的藥劑能自然流走。