四種常見的真空鍍膜材料

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

2.氟化物：氟化釹NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化鎂MgF2，LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。

3.其它化合物：硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，CdS等真空鍍膜材料。

4.金屬鍍膜材料：高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦合金CuInGa，銅銦硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個細節之中。

物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩定的合金膜和重復性好等優點。同時，物理氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。是被鎮基材直接通過真空鍍膜機，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成鍍鋁薄膜。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發、高可靠性設備的同時，也對其應用領域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。

可承受常規消毒Parylene涂層被廣泛應用于各類產品，如心臟起搏器、房間隔缺損封堵器.血管支架、人工耳、人工心臟、超聲波探頭、線路板，骨釘、臨時手術器械、替換型器件、引流管、腦部探針及針頭等產品。

在國外除了心臟起搏 器用派瑞林進行可靠絕緣防護外，腦電極、植入式傳感器、射頻、血液分析傳感器和高頻手術刀等微型電子，也都有使用派瑞林。